半导体激光阵列的光束指向性补偿装置及光学系统

    公开(公告)号:CN112332209B

    公开(公告)日:2022-03-15

    申请号:CN202011357179.8

    申请日:2020-11-26

    Abstract: 本发明提供一种半导体激光阵列的光束指向性补偿装置及光学系统。该光束指向性补偿装置包括分别对应于所述半导体激光阵列中的多个发光单元的多个透镜单元,其中,每个所述透镜单元具有彼此不平行的入射面和出射面,并且根据对应的所述发光单元的光束指向角,每个所述透镜单元的所述入射面和所述出射面之间形成不同的夹角。该光束指向性补偿装置可以对每个发光单元的光束指向性进行针对性地补偿,从而可以有效地补偿发光单元的指向性,得到强度分布均匀的远场光斑,提高光束质量。

    半导体激光阵列的光束指向性补偿装置及光学系统

    公开(公告)号:CN112332209A

    公开(公告)日:2021-02-05

    申请号:CN202011357179.8

    申请日:2020-11-26

    Abstract: 本发明提供一种半导体激光阵列的光束指向性补偿装置及光学系统。该光束指向性补偿装置包括分别对应于所述半导体激光阵列中的多个发光单元的多个透镜单元,其中,每个所述透镜单元具有彼此不平行的入射面和出射面,并且根据对应的所述发光单元的光束指向角,每个所述透镜单元的所述入射面和所述出射面之间形成不同的夹角。该光束指向性补偿装置可以对每个发光单元的光束指向性进行针对性地补偿,从而可以有效地补偿发光单元的指向性,得到强度分布均匀的远场光斑,提高光束质量。

    一种在碱溶液中利用飞秒激光制备黑硅的方法

    公开(公告)号:CN104022190B

    公开(公告)日:2017-02-01

    申请号:CN201410284079.5

    申请日:2014-06-23

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明提供一种在碱溶液中利用飞秒激光制备黑硅的方法,其包括以下步骤:步骤1,在温度为22±1℃的条件下,配制质量百分比为2wt%的碱溶液;步骤2,将抛光硅片放入步骤1配置的所述碱溶液;步骤3,用飞秒激光脉冲对所述碱溶液中放入的所述抛光硅片进行扫描处理,获得黑硅。本发明的在碱溶液中利用飞秒激光制备黑硅的方法不需要使用真空设备,节省了成本,而且避免了六氟化硫和硫化氢等含硫元素的危险气体产生。而且制备过程简单易操作,使用的是2wt%的碱溶液,浓度低、成本低廉,几乎不会对环境和人体产生危害,安全性高。

    一种在碱溶液中利用飞秒激光制备黑硅的方法

    公开(公告)号:CN104022190A

    公开(公告)日:2014-09-03

    申请号:CN201410284079.5

    申请日:2014-06-23

    CPC classification number: Y02P70/521 H01L31/1804 H01L21/268

    Abstract: 本发明提供一种在碱溶液中利用飞秒激光制备黑硅的方法,其包括以下步骤:步骤1,在温度为22±1℃的条件下,配制质量百分比为2wt%的碱溶液;步骤2,将抛光硅片放入步骤1配置的所述碱溶液;步骤3,用飞秒激光脉冲对所述碱溶液中放入的所述抛光硅片进行扫描处理,获得黑硅。本发明的在碱溶液中利用飞秒激光制备黑硅的方法不需要使用真空设备,节省了成本,而且避免了六氟化硫和硫化氢等含硫元素的危险气体产生。而且制备过程简单易操作,使用的是2wt%的碱溶液,浓度低、成本低廉,几乎不会对环境和人体产生危害,安全性高。

    用于光纤耦合的调节装置

    公开(公告)号:CN212965506U

    公开(公告)日:2021-04-13

    申请号:CN202021326349.1

    申请日:2020-07-08

    Abstract: 本实用新型涉及光纤耦合技术领域,尤其涉及一种用于光纤耦合的调节装置,包括四自由度串联运动机构、二自由度串联运动机构和光纤夹持器;所述四自由度串联运动机构包括彼此连接的X轴移动组件、Y轴移动组件、Z轴移动组件和Y轴旋转组件;所述二自由度串联运动机构连接于所述四自由度串联运动机构的末端,包括彼此连接的X轴旋转组件和Z轴旋转组件;所述光纤夹持器连接于所述二自由度串联运动机构的末端。本实用新型提供的用于光纤耦合的调节装置避免了在光纤耦合装调过程中的手动调节带来的误差,提高了光纤耦合的对准精度,有助于获得更高的光纤耦合效率。

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