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公开(公告)号:CN104568604B
公开(公告)日:2017-06-06
申请号:CN201410817306.6
申请日:2014-12-24
Applicant: 北京工业大学
IPC: G01N3/20
Abstract: 一种用于对薄膜样品施加动态均匀应力的四点法装置,属于压力加工技术领域。包括用于用于支撑整个机械装置的支架、支撑齿轮传动装置的钢板、实施加载力的齿轮、使齿轮自由转动的轴承和轴、通过程序控制并带动整个齿轮装置的步进电机;其特征在于通过通过程序控制步进电机转动,通过齿轮之间的啮合传动,使实施加载力的两个齿轮转动方向相反,从而对样品实施加载力,并且样品受到的应力均匀分布,随齿轮转动而均匀变化,使样品不容易损坏,每次试验,装置各部分位置固定,不需要重新布置,操作简单方便,实验效率高。
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公开(公告)号:CN104089812A
公开(公告)日:2014-10-08
申请号:CN201410140579.1
申请日:2014-04-09
Applicant: 北京工业大学
IPC: G01N3/02
Abstract: 一种用于对样品施加均匀应力的四点法装置,属于压力加工技术领域。包括用于支撑整个装置的底座、标有固定刻度和可动刻度的旋钮、可上下移动的高度可调平台、反映加载力大小的压力传感器、实施加载力的上辊架和下辊台、用于支撑上辊架的支架、固定作用的螺钉;其特征在于通过旋钮调节高度可调平台向上移动,通过上辊架的两个上辊和下辊台的两个下辊对样品作用加载应力,且在下辊台的下辊之间的样品所受的应力均匀分布,使样品相对不易损坏,每次试验上辊架和下辊台的相对位置不变,不用重新布置,操作简单方便,试验效率高。
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公开(公告)号:CN104568604A
公开(公告)日:2015-04-29
申请号:CN201410817306.6
申请日:2014-12-24
Applicant: 北京工业大学
IPC: G01N3/20
Abstract: 一种用于对薄膜样品施加动态均匀应力的四点法装置,属于压力加工技术领域。包括用于支撑整个机械装置的支架、支撑齿轮传动装置的钢板、实施加载力的齿轮、使齿轮自由转动的轴承和轴、通过程序控制并带动整个齿轮装置的步进电机;其特征在于通过程序控制步进电机转动,通过齿轮之间的啮合传动,使实施加载力的两个齿轮转动方向相反,从而对样品实施加载力,并且样品受到的应力均匀分布,随齿轮转动而均匀变化,使样品不容易损坏,每次试验,装置各部分位置固定,不需要重新布置,操作简单方便,实验效率高。
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