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公开(公告)号:CN101718939B
公开(公告)日:2011-08-24
申请号:CN200910235973.2
申请日:2009-11-03
Applicant: 北京大学
IPC: G02F1/35
Abstract: 本发明公开了一种光子晶体微腔结构及其制作方法,属于光电子技术领域。本发明的光子晶体微腔结构,包括有机覆盖层、衬底和位于所述有机覆盖层与所述衬底之间的半导体光子晶体微腔;所述有机覆盖层为非线性有机共轭聚合物;本发明的方法为:1)在衬底上生长一层半导体薄膜;2)在半导体薄膜上刻蚀光子晶体微腔结构;3)在光子晶体微腔结构上制备一层有机覆盖层;所述有机覆盖层为非线性有机共轭聚合物。与现有技术相比,本发明的光子晶体微腔制备的光开关具有高Q值、低泵浦功率低功率、开关时间响应快的特点,同时加工和制备方便,非常利于集成。
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公开(公告)号:CN101718939A
公开(公告)日:2010-06-02
申请号:CN200910235973.2
申请日:2009-11-03
Applicant: 北京大学
IPC: G02F1/35
Abstract: 本发明公开了一种光子晶体微腔结构及其制作方法,属于光电子技术领域。本发明的光子晶体微腔结构,包括有机覆盖层、衬底和位于所述有机覆盖层与所述衬底之间的半导体光子晶体微腔;所述有机覆盖层为非线性有机共轭聚合物;本发明的方法为:1)在衬底上生长一层半导体薄膜;2)在半导体薄膜上刻蚀光子晶体微腔结构;3)在光子晶体微腔结构上制备一层有机覆盖层;所述有机覆盖层为非线性有机共轭聚合物。与现有技术相比,本发明的光子晶体微腔制备的光开关具有高Q值、低泵浦功率低功率、开关时间响应快的特点,同时加工和制备方便,非常利于集成。
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