锇膜的电镀制备方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102453932A

    公开(公告)日:2012-05-16

    申请号:CN201010517810.6

    申请日:2010-10-25

    Abstract: 本发明公开了一种厚度在1微米以上的锇膜及其制造方法。该方法通过在玻璃基片上用PVD法镀铬膜,再在铬膜上用PVD法镀一层导电系数高、化学稳定性好的金膜,然后在金膜上电镀锇膜而成。电镀分次进行、从而使锇膜厚度达到1微米以上。本发明的锇膜可用于制备空间原子氧环境探测器,解决了传统的PVD方法淀积锇膜容易发生开裂现象以及锇层镀不厚问题。

    玻璃钢真空容器等离子体试验系统

    公开(公告)号:CN201348645Y

    公开(公告)日:2009-11-18

    申请号:CN200820178012.3

    申请日:2008-11-17

    Abstract: 本实用新型提供了一种本玻璃钢真空容器等离子体环境试验系统,主要包括真空容器,等离子源,抽气子系统;真空容器包括有真空封盖大门,容器体,真空封盖大门通过铰链联接到容器体上;容器体的另一端端部中心部位通过阀门与等离子体源连接,端部的上方有供液氮流出热沉的出口装置,正下部有供液氮进入热沉的进口装置;容器体上方有用于各种测量使用的法兰接口,容器体的中间水平位置上有用于观察内部环境的玻璃窗;真空容器的下部有用于支撑的支座,容器采用卧式方式固定在支座上。本实用新型不仅能获得清洁真空环境,而且满足了在10SCCM流量下获得压力≤1.3×10-3Pa的工作真空度要求。在小气量注入的条件下还能达到更高的真空度,可以到10-6Pa量级。

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