一种补光组件、拍摄组件及镭雕设备

    公开(公告)号:CN111552136A

    公开(公告)日:2020-08-18

    申请号:CN202010483617.9

    申请日:2020-06-01

    Abstract: 本发明公开了一种补光组件、拍摄组件及镭雕设备,属于自动化技术领域。一种补光组件,包括第一光源和第二光源,所述第一光源发出的第一光束垂直于相机的成像平面且能够照射到产品的弧面凹槽底壁,所述第二光源发出的第二光束与第一光源发出的第一光束相交于产品的上方且能够照射到产品的弧面凹槽侧壁。拍摄组件及镭雕设备包括前述补光组件。本发明能够针对多种高反材料的产品进行有效补光,改善了产品拍摄效果。

    一种产品检测方法及装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114202528A

    公开(公告)日:2022-03-18

    申请号:CN202111521018.2

    申请日:2021-12-13

    Abstract: 本申请提供了一种产品检测方法及装置,通过CCD相机获取待测电子产品的目标表面的产品图像以及深度信息;从产品图像中识别出目标产品区域;根据目标产品区域的深度信息,确定待测电子产品的目标表面的整体平均深度值;根据整体平均深度值和第一阈值范围,确定待测电子产品的目标表面的整体平整性是否满足平整性检测合格条件;若整体平整性满足平整性检测合格条件,则确定待测电子产品的目标表面的平整性检测合格。通过本申请,在不接触电子元器件的情况下,快速、准确的对电子元器件的表面平整性进行检测。

    一种补光组件、拍摄组件及镭雕设备

    公开(公告)号:CN212009242U

    公开(公告)日:2020-11-24

    申请号:CN202020973275.4

    申请日:2020-06-01

    Abstract: 本实用新型公开了一种补光组件、拍摄组件及镭雕设备,属于自动化技术领域。一种补光组件,包括第一光源和第二光源,所述第一光源发出的第一光束垂直于相机的成像平面且能够照射到产品的弧面凹槽底壁,所述第二光源发出的第二光束与第一光源发出的第一光束相交于产品的上方且能够照射到产品的弧面凹槽侧壁。拍摄组件及镭雕设备包括前述补光组件。本实用新型能够针对多种高反材料的产品进行有效补光,改善了产品拍摄效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

Patent Agency Ranking