公开(公告)号：CN101952239A

公开(公告)日：2011-01-19

申请号：CN200980105930.0

申请日：2009-02-20

Applicant: 出光兴产株式会社

Inventor： 田中慎司 ,  福岛主也 ,  伊藤克树 ,  河野直弥 ,  山根秀树

IPC: C07C69/708 ,  C07C67/08 ,  C07C67/14 ,  C07C69/54 ,  C07C69/67

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C07C67/08 ,  C07C67/14 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/18 ,  C07C2602/28 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/68 ,  C07C2603/74 ,  C07C2603/86 ,  G03F7/0046 ,  C07C69/73

Abstract: 通过含有具有酯键的连结基团和/或具有醚键的连结基团的含脂环结构的化合物、由该含脂环结构的化合物衍生得到的(甲基)丙烯酸酯类及其制备方法，提供作为半导体装置制造中使用的光致抗蚀剂用单体等有用的溶解性、相容性、缺陷降低、粗糙度改善等优异的含脂环结构的化合物、(甲基)丙烯酸酯类及其制备方法。