膜处理方法及膜制造方法

    公开(公告)号:CN110832108A

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201880043421.9

    申请日:2018-06-04

    Abstract: 公开一种由膜处理装置(1)进行的处理方法,该膜处理装置(1)具备:第1放电电极单元(3)和第2放电电极单元(4)、以及交流电源(5),第1放电电极单元(3)和第2放电电极单元(4)分别具有形成磁场的磁体(3b)、(4b),交流电源(5)能够交替地切换第1放电电极单元(3)和第2放电电极单元(4)的极性。在该处理方法中,通过由交流电源(5)供给的高频功率,在交替地切换第1放电电极单元(3)和第2放电电极单元(4)的极性的同时,产生等离子体(P),从而进行对膜(F)的预定表面处理。

    膜处理方法及膜制造方法

    公开(公告)号:CN110832108B

    公开(公告)日:2023-03-31

    申请号:CN201880043421.9

    申请日:2018-06-04

    Abstract: 公开一种由膜处理装置(1)进行的处理方法,该膜处理装置(1)具备:第1放电电极单元(3)和第2放电电极单元(4)、以及交流电源(5),第1放电电极单元(3)和第2放电电极单元(4)分别具有形成磁场的磁体(3b)、(4b),交流电源(5)能够交替地切换第1放电电极单元(3)和第2放电电极单元(4)的极性。在该处理方法中,通过由交流电源(5)供给的高频功率,在交替地切换第1放电电极单元(3)和第2放电电极单元(4)的极性的同时,产生等离子体(P),从而进行对膜(F)的预定表面处理。

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