公开(公告)号：CN1732284A

公开(公告)日：2006-02-08

申请号：CN200380107480.1

申请日：2003-12-26

Applicant: 凸版印刷株式会社 ,  应用薄膜有限公司

Inventor： 佐佐木昇 ,  铃木浩 ,  小泉文刚 ,  今井伸彦 ,  新井邦正 ,  小长井裕之

IPC: C23C14/56 ,  C23C16/54

CPC classification number: C23C14/562

Abstract: 公开了一种真空蒸镀装置和一种蒸镀膜制造方法，用于通过在原料薄膜的表面上形成蒸镀层而产生蒸镀膜。在真空蒸镀装置中，同步装置(18)将涂辊(14)的圆周速度v1和收取导辊(15)的圆周速度v2设置为v1＝v2，从而位于蒸镀膜表面上的蒸镀层不会摩擦收取导辊(15)。因此，消除了损坏蒸镀层的可能性，以使蒸镀层具有足够的性能。

公开(公告)号：CN100582295C

公开(公告)日：2010-01-20

申请号：CN200380107480.1

申请日：2003-12-26

Applicant: 凸版印刷株式会社 ,  应用薄膜有限公司

Inventor： 佐佐木昇 ,  铃木浩 ,  小泉文刚 ,  今井伸彦 ,  新井邦正 ,  小长井裕之

IPC: C23C14/56 ,  C23C16/54

CPC classification number: C23C14/562

Abstract: 公开了一种真空蒸镀装置和一种蒸镀膜制造方法，用于通过在原料薄膜的表面上形成蒸镀层而产生蒸镀膜。在真空蒸镀装置中，同步装置(18)将涂辊(14)的圆周速度v1和收取导辊(15)的圆周速度v2设置为v1＝v2，从而位于蒸镀膜表面上的蒸镀层不会摩擦收取导辊(15)。因此，消除了损坏蒸镀层的可能性，以使蒸镀层具有足够的性能。

公开(公告)号：CN1161226C

公开(公告)日：2004-08-11

申请号：CN99809929.5

申请日：1999-02-24

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 小森常范 ,  关口守 ,  佐佐木升 ,  岛谷健 ,  小泉文刚

IPC: B32B9/00

CPC classification number: C08J7/045 ,  Y10T428/1328 ,  Y10T428/1341 ,  Y10T428/1383 ,  Y10T428/2495 ,  Y10T428/24967 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/2955 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31667 ,  Y10T428/31855

Abstract: 一种汽相沉积膜，包括一个由塑料材料制成的基底、一个底层和一个汽相沉积层，该底层所包括的组份包含特定的三管能有机硅烷或其水解产物、丙烯多羟基化合物和异氰酸盐(或酯)合成物，该汽相沉积层包括厚度为5～300nm的无机氧化物，通过在所示基底的至少一侧上的连续层压形成。另外，还可以使用提供的膜形成包装材料和包装。

公开(公告)号：CN1326401A

公开(公告)日：2001-12-12

申请号：CN99809929.5

申请日：1999-02-24

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 小森常范 ,  关口守 ,  佐佐木升 ,  岛谷健 ,  小泉文刚

IPC: B32B9/00

CPC classification number: C08J7/045 ,  Y10T428/1328 ,  Y10T428/1341 ,  Y10T428/1383 ,  Y10T428/2495 ,  Y10T428/24967 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/2955 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31667 ,  Y10T428/31855

Abstract: 一种汽相沉积膜,包括一个由塑料材料制成的基底、一个底层和一个汽相沉积层,该底层所包括的组份包含特定的三管能有机硅烷或其水解产物、丙烯多羟基化合物和异氰酸盐(或酯)合成物,该汽相沉积层包括厚度为5～300nm的无机氧化物,通过在所示基底的至少一侧上的连续层压形成。另外,还可以使用提供的膜形成包装材料和包装。