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公开(公告)号：CN109153888A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201780030270.9
申请日：2017-04-14
Applicant: 凯斯科技股份有限公司
IPC: C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/321 , H01L21/3105
Abstract: 本发明涉及一种高阶梯差抛光料浆组合物，根据本发明一个实施例的高阶梯差抛光料浆组合物包括：抛光液，含有经正电荷分散的金属氧化物抛光粒子；和添加液，含有高分子聚合物，具有经正电荷被活性化的一个以上元素，且具有凸出部和凹陷部的氧化膜图案晶片中的阶梯差去除速度和氧化膜平板晶片中的去除速度的抛光选择比为5:1以上。
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