公开(公告)号：CN107075693A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580056861.4

申请日：2015-11-17

Applicant: 关东化学株式会社

Inventor： 高桥秀树 ,  廖本男 ,  李盈壕

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  C23F1/46

Abstract: 本发明提供能够对包括由铜或以铜为主要成分的合金形成的层和由钼或以钼为主要成分的合金形成的层的金属层叠膜进行一次性蚀刻，且可防止钼层的底切，剖面形状的控制和根据剖面对组成浓度的调整容易的具有稳定性的蚀刻液组合物，还提供使用该组合物的蚀刻方法及延长该组合物的寿命的方法。本发明的蚀刻液组合物是用于对包括由铜或以铜为主要成分的合金形成的层和由钼或以钼为主要成分的合金形成的层的金属层叠膜进行一次性蚀刻的蚀刻液组合物，其中，含有过氧化氢、有机酸、胺化合物、唑类、过氧化氢稳定剂，但不含无机酸。

公开(公告)号：CN113939899A

公开(公告)日：2022-01-14

申请号：CN202080043042.7

申请日：2020-06-12

Applicant: 关东化学株式会社

Inventor： 高桥秀树 ,  荻原艾琳娜 ,  廖本男 ,  吴柏衡 ,  李懿

IPC: H01L21/306

Abstract: 本发明以提供抑制氮化钛用蚀刻液组合物中所含的过氧化氢的分解的分解抑制剂为课题。本发明涉及一种用于抑制氮化钛用蚀刻液组合物中所含的过氧化氢的分解的分解抑制剂，其中，包含选自唑类化合物、氨基羧酸类化合物和膦酸类化合物的至少1种化合物作为有效成分。

公开(公告)号：CN107075693B

公开(公告)日：2019-07-12

申请号：CN201580056861.4

申请日：2015-11-17

Applicant: 关东化学株式会社

Inventor： 高桥秀树 ,  廖本男 ,  李盈壕

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  C23F1/46

Abstract: 本发明提供能够对包括由铜或以铜为主要成分的合金形成的层和由钼或以钼为主要成分的合金形成的层的金属层叠膜进行一次性蚀刻，且可防止钼层的底切，剖面形状的控制和根据剖面对组成浓度的调整容易的具有稳定性的蚀刻液组合物，还提供使用该组合物的蚀刻方法及延长该组合物的寿命的方法。本发明的蚀刻液组合物是用于对包括由铜或以铜为主要成分的合金形成的层和由钼或以钼为主要成分的合金形成的层的金属层叠膜进行一次性蚀刻的蚀刻液组合物，其中，含有过氧化氢、有机酸、胺化合物、唑类、过氧化氢稳定剂，但不含无机酸。

公开(公告)号：CN113939899B

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202080043042.7

申请日：2020-06-12

Applicant: 关东化学株式会社

Inventor： 高桥秀树 ,  荻原艾琳娜 ,  廖本男 ,  吴柏衡 ,  李懿

IPC: H01L21/306

Abstract: 本发明以提供抑制氮化钛用蚀刻液组合物中所含的过氧化氢的分解的分解抑制剂为课题。本发明涉及一种用于抑制氮化钛用蚀刻液组合物中所含的过氧化氢的分解的分解抑制剂，其中，包含选自唑类化合物、氨基羧酸类化合物和膦酸类化合物的至少1种化合物作为有效成分。