一种判断入射光偏振的超构表面及轨迹设置方法

    公开(公告)号:CN117492115A

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202311194362.4

    申请日:2023-09-15

    Applicant: 兰州大学

    Abstract: 本发明公开的一种判断入射光偏振的超构表面,其特征在于:由若干均匀排布的单元结构组成,所述单元结构为双层,包括为硅质纳米棒的顶层,以及为二氧化硅基底的底层。以及一种轨迹设置方法,基于权利要求1所述的超构表面实现设置,其特征在于,包括如下步骤:S1、将焦平面上焦点的轨迹设置为目标轨迹,根据目标设计对应的超构表面;S2、入射波长λ0=530nm时,通过入射光通过所述超构表面在焦平面的成像结构,调节入射光。本发明提出的成像方式具有亚波长分辨率,并且在目标图像中加入了便于偏振检测的偏振信息,为超构表面成像提供了新思路。

    一种基于手性的透射及反射双模式近场成像装置

    公开(公告)号:CN221572858U

    公开(公告)日:2024-08-20

    申请号:CN202322982293.5

    申请日:2023-11-06

    Applicant: 兰州大学

    Abstract: 本实用新型涉及近场成像器件技术领域,具体涉及一种基于手性的透射及反射双模式近场成像装置,所述装置为基于聚酰亚胺的太赫兹波段手性近场成像透射以及反射模式型器件,包括超构表面单元结构,所述超构表面单元结构为反射型三层结构,所述反射型三层结构分别是:金结构层、介质层、金结构层;其中顶层和底层为金结构层,中间为介质层;能够在透射模式和反射模式下进行成像,可以实现对电磁波的手性进行调控,在相应工作频段内可以实现透射模式下或者反射模式下的近场成像工作,并且对于不同旋向极化波入射,其强度也会进行反转;这种手性调控的能力可用于实现光学信号处理、光学信息存储和光学通信等领域的应用。

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