公开(公告)号：CN115308983A

公开(公告)日：2022-11-08

申请号：CN202210348350.1

申请日：2022-04-01

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 松桥直树 ,  寺岛隆世

IPC: G03F1/26 ,  G03F1/22 ,  G03F1/58

Abstract: 本发明提供一种光掩模坯料，其含铬膜的表层粗糙度良好，能够检测出50nm的缺陷，电阻值小，能够吸附异物，且能够读取条形码图案。所述光掩模坯料具备基板与含铬膜，该含铬膜从远离基板的一侧起具有第一层、第二层及第三层，这些层均含铬，第一层进一步含有氧及氮，Cr为44原子％以下、O为30原子％以上、N为26原子％以下，且厚度为8～20nm；第二层进一步含有氮，Cr为66～92原子％、N为8～34原子％，且厚度为40～70nm以下；第三层进一步含有氧及氮，Cr为44原子％以下、O为30原子％以上、N为26原子％以下，且厚度为10nm以下。

公开(公告)号：CN115201216A

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN202210363369.3

申请日：2022-04-07

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 寺岛隆世 ,  吉野巧 ,  寺泽恒男

IPC: G01N21/95 ,  G03F1/84

Abstract: 本发明的缺陷检查装置具有：缺陷检测部，取得与基板缺陷相关的第一缺陷信息；以及比较信息取得部，获取对存储在存储部中的规定缺陷信息与所述第一缺陷信息进行比较后的结果。