显影剂承载构件、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备

    公开(公告)号:CN105319898B

    公开(公告)日:2019-05-07

    申请号:CN201510266607.9

    申请日:2015-05-22

    Abstract: 本发明提供显影剂承载构件、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备。提供显影剂承载构件,和使用该显影剂承载构件的处理盒和电子照相设备,该显影剂承载构件包括基体、弹性层、和覆盖弹性层的表面的表面层,其中表面层包括改性丙烯酸系树脂,且改性丙烯酸系树脂具有由以下结构式(1)表示的构成单元。(R1表示具有1‑3个碳原子的烷基;U表示在两个相邻的氨基甲酸酯键之间具有由以下结构式(2)表示的结构、和选自由以下结构式(3)表示的结构和由以下结构式(4)表示的结构的至少一种结构的聚氨酯树脂;和L表示包含酯键(‑O‑C(=O)‑)的二价连接基团。)

    显影构件、电子照相处理盒、和电子照相图像形成设备

    公开(公告)号:CN112433455B

    公开(公告)日:2023-09-26

    申请号:CN202010863242.9

    申请日:2020-08-25

    Abstract: 本发明涉及显影构件、电子照相处理盒、和电子照相图像形成设备。显影构件包括具有导电性外表面的基体、在基体的外表面上的电绝缘性树脂层、和在电绝缘性树脂层的外表面上的电绝缘性域,并且显影构件的外表面包括电绝缘性树脂层的表面和域的表面,其中各域的表面的电位衰减时间常数为≥60.0秒,以及电绝缘性树脂层的表面的电位衰减时间常数为

    显影剂承载构件、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备

    公开(公告)号:CN105319898A

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201510266607.9

    申请日:2015-05-22

    CPC classification number: G03G15/0818 Y10T428/31504 G03G15/0808

    Abstract: 本发明提供显影剂承载构件、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备。提供显影剂承载构件,和使用该显影剂承载构件的处理盒和电子照相设备,该显影剂承载构件包括基体、弹性层、和覆盖弹性层的表面的表面层,其中表面层包括改性丙烯酸系树脂,且改性丙烯酸系树脂具有由以下结构式(1)表示的构成单元。(R1表示具有1-3个碳原子的烷基;U表示在两个相邻的氨基甲酸酯键之间具有由以下结构式(2)表示的结构、和选自由以下结构式(3)表示的结构和由以下结构式(4)表示的结构的至少一种结构的聚氨酯树脂;和L表示包含酯键(-O-C(=O)-)的二价连接基团。)。

    显影剂承载构件、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备

    公开(公告)号:CN103649848A

    公开(公告)日:2014-03-19

    申请号:CN201280035209.0

    申请日:2012-05-15

    CPC classification number: G03G15/0818

    Abstract: 提供显影辊,其即使在长期静置于苛刻的高温高湿环境中之后也稳定地输出具有高品质和优异耐久性的均匀图像。还提供各自包括该显影辊的处理盒和电子照相设备。显影辊包括芯轴、弹性层和覆盖该弹性层的表面的表面层,其特征在于,所述表面层含有聚氨酯树脂,所述聚氨酯树脂在两个相邻的氨基甲酸酯键之间具有下列结构A)和/或结构B):A)由结构式(1)表示的结构,和选自由结构式(2)表示的结构和由结构式(3)表示的结构组成的组的至少一种结构;和B)由结构式(4)表示的结构。辊的进一步特征在于,表面层含有具有根据ISO14577-1测量的压痕做功的弹性部分为80%以上的聚氨酯树脂颗粒:

    电子照相构件、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备

    公开(公告)号:CN117111426A

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202310586648.0

    申请日:2023-05-24

    Abstract: 本发明涉及电子照相构件、电子照相处理盒和电子照相图像形成设备。一种电子照相构件,包括导电性基体、弹性层和表面层,所述表面层包含细颗粒和粘结剂树脂并且具有小于1.0μm的厚度,所述细颗粒的平均粒径为0.1μm至0.9μm,相对于所述表面层中的所述粘结剂树脂100体积%,所述细颗粒的体积占有率为60体积%至99体积%,所述细颗粒的弹性模量E1为1,000MPa以上,所述粘结剂树脂的弹性模量E2为2MPa至200MPa,所述表面层的MD‑1硬度H1为50°至100°,H1和所述弹性层的MD‑1硬度H2之差(H1‑H2)为5°以上。

Patent Agency Ranking