充电装置和成像装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100587617C

    公开(公告)日:2010-02-03

    申请号:CN200710147712.6

    申请日:2007-08-24

    Abstract: 公开了充电装置和成像装置。该充电装置用于通过使磁性粒子与待充电构件接触来为所述待充电构件进行充电。该充电装置包括:磁性粒子承载构件,用于通过磁力承载磁性粒子,所述磁性粒子承载构件在其纵向端部处设有绝缘部分,用于与由所述磁性粒子承载构件承载的磁性粒子电绝缘;和导电构件,用于接触承载在所述绝缘部分上的磁性粒子,所述导电构件的电位的绝对值小于施加到所述磁性粒子承载构件上的电压的绝对值。

    充电装置和成像装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101661246A

    公开(公告)日:2010-03-03

    申请号:CN200910174612.1

    申请日:2007-08-24

    Abstract: 公开了充电装置和成像装置。该充电装置用于通过使磁性粒子与待充电构件接触来为所述待充电构件进行充电。该充电装置包括:磁性粒子承载构件,用于通过磁力承载磁性粒子,所述磁性粒子承载构件在其纵向端部处设有绝缘部分,所述绝缘部分用于使所述绝缘部分上承载的磁性粒子与所述磁性粒子承载构件电绝缘;和导电构件,用于接触承载在所述绝缘部分上的磁性粒子,所述导电构件的电位的绝对值小于施加到所述磁性粒子承载构件上的电压的绝对值。

    充电装置和成像装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101131555A

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200710147712.6

    申请日:2007-08-24

    Abstract: 公开了充电装置和成像装置。该充电装置用于通过使磁性粒子与待充电构件接触来为所述待充电构件进行充电。该充电装置包括:磁性粒子承载构件,用于通过磁力承载磁性粒子,所述磁性粒子承载构件在其纵向端部处设有绝缘部分,用于与由所述磁性粒子承载构件承载的磁性粒子电绝缘;和导电构件,用于接触承载在所述绝缘部分上的磁性粒子,所述导电构件的电位的绝对值小于施加到所述磁性粒子承载构件上的电压的绝对值。

    成像设备
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1858659B

    公开(公告)日:2010-06-02

    申请号:CN200610077481.1

    申请日:2006-05-08

    Inventor: 中村良

    CPC classification number: G03G15/0266 G03G15/5037 G03G2215/022

    Abstract: 一种成像设备,包括:载像构件;多个充电构件,用于向所述载像构件注入电荷;潜像形成装置,其相对于所述载像构件的圆周表面的运动方向设置在所述多个充电构件的下游,用于在已经由所述多个充电构件充电的所述载像构件上形成潜像;电位检测装置,用于在所述多个充电构件经过之后检测所述载像构件的表面电位;其中所述多个充电构件包括第一充电构件和相对于所述运动方向设置在最下游位置的第二充电构件,并且其中所述成像设备可以一种控制模式进行操作,在该控制模式中,施加到所述第一充电构件上的偏压变化而施加到所述第二充电构件上的偏压不变。

    成像设备
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1858659A

    公开(公告)日:2006-11-08

    申请号:CN200610077481.1

    申请日:2006-05-08

    Inventor: 中村良

    CPC classification number: G03G15/0266 G03G15/5037 G03G2215/022

    Abstract: 一种成像设备,包括:载像构件;多个充电构件,用于向所述载像构件注入电荷;潜像形成装置,其相对于所述载像构件的圆周表面的运动方向设置在所述多个充电构件的下游,用于在已经由所述多个充电构件充电的所述载像构件上形成潜像;电位检测装置,用于在所述多个充电构件经过之后检测所述载像构件的表面电位;其中所述多个充电构件包括第一充电构件和相对于所述运动方向设置在最下游位置的第二充电构件,并且其中所述成像设备可以一种控制模式进行操作,在该控制模式中,施加到所述第一充电构件上的偏压变化而施加到所述第二充电构件上的偏压不变。

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