公开(公告)号：CN106463325B

公开(公告)日：2019-02-26

申请号：CN201480077077.7

申请日：2014-12-30

Applicant: 佳殿欧洲责任有限公司

Inventor： 吉尔贝特·加兰 ,  让-菲利普·乌泽尔丁 ,  盖伊·科曼斯 ,  马塞尔·施洛雷贝格

IPC: H01J37/34 ,  H01J37/32 ,  C23C14/35

Abstract: 提供一种用于旋转式溅射目标(1)的末端块(4)，例如，旋转式磁控溅射目标。溅射装置包括一个或多个末端块，电触头(例如导电刷)(18)则定位在真空区域(8)(相对于大气压下的区域(9))的末端块中的收集器(20)和转子(22)之间。

公开(公告)号：CN106463325A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201480077077.7

申请日：2014-12-30

Applicant: 佳殿欧洲责任有限公司

Inventor： 吉尔贝特·加兰 ,  让-菲利普·乌泽尔丁 ,  盖伊·科曼斯 ,  马塞尔·施洛雷贝格

IPC: H01J37/34 ,  H01J37/32 ,  C23C14/35

CPC classification number: C23C14/34 ,  H01J37/32816 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3411 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/342 ,  H01J37/3435 ,  H01J37/3497 ,  H01J2237/332

Abstract: 提供一种用于旋转式溅射目标(1)的末端块一个或多个末端块，电触头(例如导电刷)(18)则定位在真空区域(8)(相对于大气压下的区域(9))的末端块中的收集器(20)和转子(22)之间。(4)，例如，旋转式磁控溅射目标。溅射装置包括