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发明公开
分子膜、分子膜集成体、红外线遮蔽膜和结构体审中-实审

公开(公告)号：CN118159494A

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN202280071785.4

申请日：2022-10-26

Applicant: 住友金属矿山株式会社 , 国立大学法人东海国立大学机构

Inventor： 常松裕史 , 长田实

IPC: C01G41/00 , B32B9/00 , B82Y30/00 , C09K3/00 , G02B5/22 , G02B5/23 , G02B5/26 , G02B5/28

Abstract: 提供一种分子膜，其包含钨‑氧八面体块。

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