公开(公告)号：CN101348916B

公开(公告)日：2011-06-08

申请号：CN200810096179.X

申请日：2008-05-09

Applicant: 住友金属矿山株式会社

Inventor： 安藤孝治 ,  檜垣达也 ,  浅野聪

IPC: C25B1/00

Abstract: 本发明提供一种将含有氯化铁或氯化铜的蚀刻废液作为电解液通入电解槽中将该蚀刻废液中的低价离子电解氧化为高价离子的方法，该方法抑制在阳极表面的蚀刻废液的过氧化，防止氯气从电解槽中产生，并且在设备投资以及操作成本上有效地电解氧化蚀刻废液。一种将含有氯化铁的蚀刻废液作为电解液通入由用隔膜隔开的阳极室和阴极室形成的电解槽中将该蚀刻废液中的低价离子电解氧化为高价离子的方法，其特征在于，使用特定的电解槽，向电解槽供给所述蚀刻废液，将来自阳极室排液量的15～50％作为供液进行循环，并将来自阳极室排液的氧化还原电位的管理值控制在550～800mV，所述氧化还原电位以银/氯化银电极为基准。

公开(公告)号：CN101348916A

公开(公告)日：2009-01-21

申请号：CN200810096179.X

申请日：2008-05-09

Applicant: 住友金属矿山株式会社

Inventor： 安藤孝治 ,  檜垣达也 ,  浅野聪

IPC: C25B1/00

Abstract: 本发明提供一种将含有氯化铁或氯化铜的蚀刻废液作为电解液通入电解槽中将该蚀刻废液中的低价离子电解氧化为高价离子的方法，该方法抑制在阳极表面的蚀刻废液的过氧化，防止氯气从电解槽中产生，并且在设备投资以及操作成本上有效地电解氧化蚀刻废液。一种将含有氯化铁的蚀刻废液作为电解液通入由用隔膜隔开的阳极室和阴极室形成的电解槽中将该蚀刻废液中的低价离子电解氧化为高价离子的方法，其特征在于，使用特定的电解槽，向电解槽供给所述蚀刻废液，将来自阳极室排液量的15～50％作为供液进行循环，并将来自阳极室排液的氧化还原电位的管理值控制在550～800mV，所述氧化还原电位以银/氯化银电极为基准。