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发明公开
透明氧化物膜、透明氧化物膜的制造方法、氧化物烧结体和透明树脂基板无效

公开(公告)号：CN111836912A

公开(公告)日：2020-10-27

申请号：CN201980018058.X

申请日：2019-01-24

Applicant: 住友金属矿山株式会社

Inventor： 下山田卓矢 , 桑原正和 , 仁藤茂生

IPC: C23C14/08 , C04B35/453 , C04B35/457 , C23C14/34

Abstract: 本发明提供一种通过量产性高的直流溅射而具有良好的透明性、水蒸气阻隔性能、以及优异的耐化学试剂性，并且柔性也优异的透明氧化物膜及其制造方法、用于形成膜的氧化物烧结体、以及使用透明氧化物膜的透明树脂基板。一种含有Zn和Sn的非晶质的透明氧化物膜，以金属原子数比计，Sn/(Zn+Sn)为0.44以上且0.90以下，膜厚为100nm以下。另外，一种透明氧化物膜的制造方法，使用由Sn‑Zn‑O系的氧化物烧结体构成的靶进行溅射而得到透明氧化物膜，溅射时所使用的所述氧化物烧结体中含有的Zn与Sn的金属原子数比的Sn/(Zn+Sn)为0.44以上且0.90以下，成膜的膜厚为100nm以下。

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