光透过性层叠体及光透过性层叠体的制造方法

    公开(公告)号:CN108367540A

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201680073827.2

    申请日:2016-11-25

    Abstract: 本发明提供一种即便在短时间成膜的情况下也满足高折射率薄膜的光透过性及接着性的光透过性层叠体及其制造方法。一种光透过性层叠体10,其依序具有金属薄膜层16、折射率高于金属薄膜层16的高折射率薄膜层14、光透过性基板12,高折射率薄膜层14含有高折射率聚合物及流平剂,高折射率聚合物具有包含选自N、O、S中的至少一种元素的官能基,流平剂的含量相对于高折射率聚合物100质量份而为0.20质量份~20.32质量份的范围内。

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