公开(公告)号：CN116669946B

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN202280008698.4

申请日：2022-01-21

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 大门上原满 ,  樱井彩香 ,  伊藤友宏

IPC: C09D171/00 ,  G02B1/18 ,  G02B1/14 ,  G09F9/00 ,  C09D183/00 ,  C08L83/08 ,  B32B27/00 ,  B32B9/00

Abstract: 本发明为固化被膜，其为包含氟聚醚结构的有机硅化合物(A)与具有氨基或胺骨架的有机硅化合物(C)的混合组合物的固化被膜，利用X射线光电子能谱法(XPS)测定了构成前述固化被膜的单侧表面(W)的元素及其量时，F含有率为60原子％以上，并且O含有率为17原子％以上。

公开(公告)号：CN116601227A

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：CN202180083475.X

申请日：2021-12-02

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 岛崎泰治 ,  大门上原满

IPC: C08K5/5415

Abstract: 一种混合组合物，其为式(a1)所示的化合物(A1)、式(b1)所示的有机硅化合物(B)和溶剂(E)的混合组合物，前述溶剂(E)包含化合物(E1)，所述化合物(E1)满足汉森溶解度参数为18(J/cm3)1/2以上且23.5(J/cm3)1/2以下，并且汉森溶解度参数中的氢键项(δH)为5.5(J/cm3)1/2以上。

公开(公告)号：CN116669946A

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN202280008698.4

申请日：2022-01-21

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 大门上原满 ,  樱井彩香 ,  伊藤友宏

IPC: B32B9/00

Abstract: 本发明为固化被膜，其为包含氟聚醚结构的有机硅化合物(A)与具有氨基或胺骨架的有机硅化合物(C)的混合组合物的固化被膜，利用X射线光电子能谱法(XPS)测定了构成前述固化被膜的单侧表面(W)的元素及其量时，F含有率为60原子％以上，并且O含有率为17原子％以上。

公开(公告)号：CN118829695A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202380025631.6

申请日：2023-02-24

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 大门上原满 ,  伊藤友宏

IPC: C09D5/00 ,  C09D7/20

Abstract: 本发明是有机硅化合物(C)与溶剂(Eα)的混合组合物，所述有机硅化合物(C)包含氨基或胺骨架，且包含甲氧基，在所述溶剂(Eα)中，将汉森溶解度参数中的氢键项(δH)与色散项(δD)的比率设为δH/δD时，δH/δD为0.41以上，相对于前述混合组合物100质量％，前述有机硅化合物(C)的量为0.001质量％以上且小于0.25质量％。

公开(公告)号：CN118613545A

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202280090199.4

申请日：2022-12-19

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 岛崎泰治 ,  大门上原满

IPC: C08L83/06 ,  C03C17/30 ,  C09K3/18

Abstract: 一种混合组合物，其包含下述式(a1)所示的化合物(A1)和/或下述式(a2)所示的化合物(A2)且包含下述式(b1)所示的有机硅化合物(B)。需要说明的是，式(a1)中，Ra1表示下述式(a11)所示的基团。#imgabs0#Si(Rb1)b20(Xb1)b21(Yb1)b22(b1)。

公开(公告)号：CN116568773A

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN202280008057.9

申请日：2022-01-21

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 大门上原满 ,  伊藤友宏 ,  松浦拓哉

IPC: C09K3/18

Abstract: 混合组合物，其为具有氨基或胺骨架的有机硅化合物(C)、溶剂1和溶剂2的混合组合物，在将汉森溶解度参数中的氢键项(δH)与分散项(δD)的比率设为δH/δD时，溶剂1的比率(δH/δD)小于0.410，溶剂2的比率(δH/δD)为0.410以上。