公开(公告)号：CN113755100A

公开(公告)日：2021-12-07

申请号：CN202110600081.9

申请日：2021-05-31

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 安井未央 ,  岩田智 ,  仲西雄亮 ,  阪上智惠

IPC: C09J4/02 ,  C09J4/06 ,  B32B7/12 ,  B32B7/023 ,  B32B27/30 ,  B32B27/08 ,  B32B23/08 ,  B32B23/20 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供一种固化性组合物，其贮藏稳定性优异，并且在作为粘接剂使用时与聚乙烯醇系偏振片的密合性良好。本发明的固化性组合物包含C9系石油树脂(A)和单官能(甲基)丙烯酸酯化合物(B)，C9系石油树脂(A)包含溴值不同的2种以上的C9系石油树脂。

公开(公告)号：CN119731568A

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202380063305.4

申请日：2023-08-30

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 坂口哲生 ,  佐濑光敬 ,  仲西雄亮 ,  关和雅 ,  李昇祐 ,  西上由纪

IPC: G02B5/30 ,  B32B7/023 ,  B32B27/00 ,  C09J7/38 ,  C09J7/40 ,  C09J201/00

Abstract: 本发明提供一种能够从粘合剂层将剥离膜良好地剥离的光学层叠体。光学层叠体依次包含光学膜、粘合剂层以及剥离膜。剥离膜在与粘合剂层接触的一侧具有包含硅氧烷化合物的剥离处理面。剥离膜的剥离处理面满足下述式（1）的关系。Ys/Xs×100≤3.5 （1）［式（1）中，Xs表示在剥离处理面的XPS谱图（Sr）中结合能为96eV以上且108eV以下的范围中的最大的峰Ps的强度，Ys表示在将峰Ps处的结合能设为Es［eV］时结合能（Es＋2）eV处的XPS谱图（Sr）的强度。］

公开(公告)号：CN119439345A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202411020598.0

申请日：2024-07-29

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 手塚庆典 ,  仲西雄亮 ,  丹羽泰纪

IPC: G02B5/30 ,  G02B1/10 ,  G02B1/14

Abstract: 一种偏振片、偏振板、偏振片的制造方法和偏振板的制造方法。[课题]提高与保护薄膜的层间密合力。[解决手段]一种偏振片(11)，其是使二色性色素吸附于聚乙烯醇系树脂薄膜并取向而得到的，硼酸交联度为3.3以下，能见度校正单体透射率为40％以上，能见度校正偏振度为99.98％以上。

公开(公告)号：CN113031336B

公开(公告)日：2023-12-26

申请号：CN202011396954.0

申请日：2020-12-03

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 祖父江彰二 ,  仲西雄亮

IPC: G02F1/1335 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/1337 ,  C08J7/04 ,  C08L23/02 ,  C08L67/00 ,  C08L1/08 ,  C08L33/02

Abstract: 本发明的课题在于，提供可以抑制在基材膜上形成的液晶层中产生的不均的基材膜、层叠体和它们的制造方法。上述基材膜为待涂布包含液晶化合物的涂布液的基材膜。基材膜的待涂布涂布液一侧的表面中的硅元素量的标准偏差为0.04以上且0.09以下。

公开(公告)号：CN113031336A

公开(公告)日：2021-06-25

申请号：CN202011396954.0

申请日：2020-12-03

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 祖父江彰二 ,  仲西雄亮

IPC: G02F1/1335 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/1337 ,  C08J7/04 ,  C08L23/02 ,  C08L67/00 ,  C08L1/08 ,  C08L33/02

Abstract: 本发明的课题在于，提供可以抑制在基材膜上形成的液晶层中产生的不均的基材膜、层叠体和它们的制造方法。上述基材膜为待涂布包含液晶化合物的涂布液的基材膜。基材膜的待涂布涂布液一侧的表面中的硅元素量的标准偏差为0.04以上且0.09以下。