公开(公告)号：CN1170021A

公开(公告)日：1998-01-14

申请号：CN97113814.1

申请日：1997-06-17

Applicant: 住友化学工业株式会社

Inventor： 田口敏 ,  吉田裕司 ,  根津秀明

IPC: C09D183/00 ,  C09D5/25

CPC classification number: C08J3/095 ,  C08J2383/04 ,  C09D183/04 ,  C09D183/16 ,  C08L2666/34

Abstract: 本发明提供一种含有硅树脂和含缩醛或半缩醛溶剂的液体涂料组合物,该组合物具有优越的贮存稳定性和涂料性能,对于在用于电器设备的基质表面形成含硅涂膜是有效的。该含硅涂膜可满意地用作半导体设备的中间层绝缘膜、均涂膜和保护膜。

公开(公告)号：CN1090522A

公开(公告)日：1994-08-10

申请号：CN93121504.8

申请日：1993-12-28

Applicant: 住友化学工业株式会社

Inventor： 田口敏 ,  末次益实 ,  长濑勉 ,  中川则一

IPC: B01F3/08 ,  B01F15/04 ,  G05B1/00 ,  H01L21/30

CPC classification number: G03F7/30

Abstract: 显影液配制装置和方法。该显影液包括将未稀释的显影液与纯水混合得到的具有规定浓度的显影液成分；该装置包括装有用于容纳和混合未稀释的显影液和纯水的装置的混合槽，用于测量混合槽中显影液所含显影液组分的浓度的超声波浓度计，通过超声波浓度计输出的输出信号控制送入混合槽的未稀释的显影液和/或纯水的流量的流量控制装置，用于容纳和存储混合槽中含有规定浓度的显影液成分的显影液的存储罐。