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公开(公告)号：CN101539735A
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200910008781.8
申请日：2009-03-09
Applicant: 京瓷美达株式会社
CPC classification number: G03G5/08257 , G03G5/0825 , G03G15/751 , G03G2215/00957
Abstract: 本发明提供一种使用非晶态硅感光体的图像形成装置。所述图像形成装置包括含有非晶态硅感光体的图像形成部。所述非晶态硅感光体包括基体以及设置在所述基体上的感光层。所述感光层包括在基体上顺序层叠的、高电阻层、阻止电荷注入层、光导电层和表面保护层。所述高电阻层的膜厚在1～4μm的范围内。所述感光层的膜厚在15～25μm的范围内，且所述感光层的固体光电位的绝对值在20～100V的范围内。
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