公开(公告)号：CN109920801B

公开(公告)日：2022-02-01

申请号：CN201910180171.X

申请日：2019-03-11

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

发明人： 周国庆 ,  王超 ,  赵生伟 ,  吕景萍 ,  谢霖 ,  常志强

IPC分类号： H01L27/12 ,  H01L21/77

摘要： 本发明提供一种阵列基板及其制作方法、和显示装置，其中，所述方法包括：在衬底基板上形成金属层；在金属层上涂覆光刻胶，利用掩膜板对光刻胶进行曝光，使得作用于第一光刻胶部分的光量小于作用于第二光刻胶部分的光量，形成位于走线区域的第一光刻胶保留部分和位于显示区域的第二光刻胶保留部分；刻蚀掉所述金属层中对应光刻胶去除部分的金属部分后，剥离所述第一光刻胶保留部分和所述第二光刻胶保留部分，得到位于走线区域的第一金属图案和位于显示区域的第二金属图案，所述第一金属图案的周期尺寸小于所述第二金属图案的周期尺寸。本发明提供的阵列基板及其制作方法、和显示装置，能够便于显示装置的窄边框化的发展。

公开(公告)号：CN108898563B

公开(公告)日：2021-01-22

申请号：CN201810710468.8

申请日：2018-07-02

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

发明人： 谢霖 ,  刘华锋 ,  赵生伟 ,  孙超超 ,  王超 ,  周国庆 ,  顺布乐 ,  吕景萍 ,  张盼盼 ,  王腾飞 ,  潘信桦 ,  李乐乐 ,  常志强 ,  党少聪 ,  穆世杰 ,  王振 ,  麻小川

IPC分类号： G06T5/00 ,  G06T7/00

摘要： 本发明公开了一种显示面板光学检测图像的处理方法及计算机可读介质，针对显示面板光学检测图像出现的模糊问题，利用图像傅里叶频谱特性对显示面板光学检测图像中的模糊图像进行分析，确定模糊图像的模糊类型；其中，模糊类型包括：运动模糊图像和散焦模糊图像；之后采用与模糊类型匹配的修复方式，对模糊图像中的模糊区域进行还原处理，使优化修复后的图像更加能够反映真实的膜层情况，以便于对其进行分析判断。由于整个优化修复过程可自动化进行，无需人员操控，从而节省人力物力、提高不良分析效率。

公开(公告)号：CN108761929A

公开(公告)日：2018-11-06

申请号：CN201810479864.4

申请日：2018-05-18

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

发明人： 刘华锋 ,  赵生伟 ,  孙超超 ,  王超 ,  吕景萍 ,  谢霖 ,  周国庆 ,  张盼盼 ,  王腾飞 ,  潘信桦 ,  李乐乐 ,  常志强 ,  党少聪 ,  穆世杰 ,  王振

IPC分类号： G02F1/1343 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/13

摘要： 本发明公开了一种显示基板、显示装置、制作方法及其修复方法，以解决现有技术在对电容结构进行维修时，存在容易发生维修失败的问题。所述电容结构包括：位于所述衬底基板之上的第一电极、位于所述第一电极之上且与所述第一电极绝缘的第二电极，其中，所述第一电极包括：条状的第一主体部、由第一主体部的一侧边延伸出的多个条状第一支部、位于所述第一主体部另一侧且与所述第一主体部间隔设置的条状第一辅助主体部；所述第二电极包括：条状的第二主体部、由第二主体部的一侧边延伸出的多个条状第二支部、位于所述第二主体部另一侧且与所述第二主体部间隔设置的条状第二辅助主体部。

公开(公告)号：CN108376643A

公开(公告)日：2018-08-07

申请号：CN201810174492.4

申请日：2018-03-02

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

发明人： 乔赟 ,  李付强 ,  赵生伟 ,  蔡志光 ,  方业周 ,  王珍 ,  史大为 ,  杨璐 ,  张寒 ,  王争奎 ,  丛乐乐 ,  秦文文 ,  黄飞

IPC分类号： H01L21/027

摘要： 本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置，属于显示技术领域。所述方法包括：在衬底基板上形成缓冲层和薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括：有源层图形，所述缓冲层中设置有第一过孔；其中，所述有源层图形与所述缓冲层中的第一过孔是通过一次构图工艺形成的，所述阵列基板的待切割区域位于所述第一过孔在所述衬底基板的正投影区域内。由于有源层图形与第一过孔是通过一次构图工艺形成的，且阵列基板的待切割区域位于第一过孔在衬底基板的正投影区域内，因此该方法能够去除待切割区域中的缓冲层。本发明用于制造阵列基板。

公开(公告)号：CN111403421A

公开(公告)日：2020-07-10

申请号：CN202010207266.9

申请日：2020-03-23

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

发明人： 穆世杰 ,  赵生伟 ,  庞鲁 ,  王超 ,  吕景萍 ,  刘桐 ,  李乐乐 ,  周国庆 ,  王腾飞 ,  党少聪 ,  常志强 ,  王振 ,  刘琳婷 ,  孙雪峰 ,  董兴 ,  张玉兵 ,  徐楠

IPC分类号： H01L27/12 ,  H01L21/77 ,  G06F3/041

摘要： 本发明提供一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制作方法。所述阵列基板包括依次设置的衬底、薄膜晶体管、第一绝缘层、触控电极、第二绝缘层及像素电极；所述阵列基板还包括触控金属图案、第一过孔及第二过孔，所述第一过孔贯穿所述第一绝缘层，所述第二过孔位于所述第一过孔内；所述触控电极通过所述第一过孔与所述触控金属图案电性连接，所述薄膜晶体管包括源漏电极，所述像素电极通过所述第二过孔与所述源漏电极电性连接。由于第二过孔位于第一过孔内，使得第二过孔与第一过孔之间的结构被取消，可避免这部分结构上方的薄膜因应力集中而破裂的问题，降低撕膜不良的几率，有利于延长阵列基板的使用寿命。

公开(公告)号：CN109920801A

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201910180171.X

申请日：2019-03-11

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

发明人： 周国庆 ,  王超 ,  赵生伟 ,  吕景萍 ,  谢霖 ,  常志强

IPC分类号： H01L27/12 ,  H01L21/77

摘要： 本发明提供一种阵列基板及其制作方法、和显示装置，其中，所述方法包括：在衬底基板上形成金属层；在金属层上涂覆光刻胶，利用掩膜板对光刻胶进行曝光，使得作用于第一光刻胶部分的光量小于作用于第二光刻胶部分的光量，形成位于走线区域的第一光刻胶保留部分和位于显示区域的第二光刻胶保留部分；刻蚀掉所述金属层中对应光刻胶去除部分的金属部分后，剥离所述第一光刻胶保留部分和所述第二光刻胶保留部分，得到位于走线区域的第一金属图案和位于显示区域的第二金属图案，所述第一金属图案的周期尺寸小于所述第二金属图案的周期尺寸。本发明提供的阵列基板及其制作方法、和显示装置，能够便于显示装置的窄边框化的发展。

公开(公告)号：CN105629597B

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201610025575.8

申请日：2016-01-14

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

发明人： 孙超超 ,  刘华锋 ,  赵生伟 ,  张凯 ,  杨磊 ,  叶路路 ,  吕景萍 ,  王超 ,  胡重粮 ,  杨盟 ,  丁多龙 ,  顺布乐 ,  谢霖 ,  李瑶 ,  孙士民

IPC分类号： G02F1/1343 ,  G02F1/1333

CPC分类号： G06F3/0418 ,  G02F1/13338 ,  G02F1/136204 ,  G02F1/136213 ,  G02F1/136227 ,  G06F3/0412 ,  G06F3/0416 ,  G06F3/044 ,  G06F2203/04103 ,  G06F2203/04107 ,  G06F2203/04111 ,  G09G3/3648 ,  G09G3/3659 ,  G09G2300/0408 ,  G09G2300/0426 ,  G09G2300/0842 ,  G09G2300/0876 ,  G09G2320/02 ,  G09G2354/00 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1248 ,  H01L27/1255 ,  H01L27/1259

摘要： 本发明涉及一种阵列基板及其显示驱动方法、制作方法、显示装置，其中的阵列基板包括位于衬底上的晶体管器件层，还包括依次层叠的第一透明导电层、第一绝缘层、第二透明导电层、第二绝缘层和第三透明导电层；所述第一透明导电层在显示区域内覆盖所述晶体管器件层；所述第二透明导电层包括触控电极的图形；所述第三透明导电层包括像素电极的图形；所述显示区域中的任一像素区域内，所述像素电极通过设置在所述第一绝缘层和所述第二绝缘层中的过孔连接所述晶体管器件层的像素电极连接端；所述第一透明导电层在所述过孔处设有开口。本发明可以在实现内嵌式触控的情况下保障公共电极的电屏蔽特性，有利于产品良率和产品性能的提升。

公开(公告)号：CN108898563A

公开(公告)日：2018-11-27

申请号：CN201810710468.8

申请日：2018-07-02

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

发明人： 谢霖 ,  刘华锋 ,  赵生伟 ,  孙超超 ,  王超 ,  周国庆 ,  顺布乐 ,  吕景萍 ,  张盼盼 ,  王腾飞 ,  潘信桦 ,  李乐乐 ,  常志强 ,  党少聪 ,  穆世杰 ,  王振 ,  麻小川

IPC分类号： G06T5/00 ,  G06T7/00

摘要： 本发明公开了一种显示面板光学检测图像的处理方法及计算机可读介质，针对显示面板光学检测图像出现的模糊问题，利用图像傅里叶频谱特性对显示面板光学检测图像中的模糊图像进行分析，确定模糊图像的模糊类型；其中，模糊类型包括：运动模糊图像和散焦模糊图像；之后采用与模糊类型匹配的修复方式，对模糊图像中的模糊区域进行还原处理，使优化修复后的图像更加能够反映真实的膜层情况，以便于对其进行分析判断。由于整个优化修复过程可自动化进行，无需人员操控，从而节省人力物力、提高不良分析效率。

公开(公告)号：CN108376643B

公开(公告)日：2020-05-26

申请号：CN201810174492.4

申请日：2018-03-02

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

发明人： 乔赟 ,  李付强 ,  赵生伟 ,  蔡志光 ,  方业周 ,  王珍 ,  史大为 ,  杨璐 ,  张寒 ,  王争奎 ,  丛乐乐 ,  秦文文 ,  黄飞

IPC分类号： H01L21/027

摘要： 本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置，属于显示技术领域。所述方法包括：在衬底基板上形成缓冲层和薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括：有源层图形，所述缓冲层中设置有第一过孔；其中，所述有源层图形与所述缓冲层中的第一过孔是通过一次构图工艺形成的，所述阵列基板的待切割区域位于所述第一过孔在所述衬底基板的正投影区域内。由于有源层图形与第一过孔是通过一次构图工艺形成的，且阵列基板的待切割区域位于第一过孔在衬底基板的正投影区域内，因此该方法能够去除待切割区域中的缓冲层。本发明用于制造阵列基板。

公开(公告)号：CN106483728B

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201710005218.X

申请日：2017-01-04

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

发明人： 丁多龙 ,  刘华锋 ,  赵生伟 ,  孙超超 ,  王超 ,  吕景萍 ,  杨盟 ,  杨磊 ,  胡重粮 ,  谢霖 ,  顺布乐 ,  孙士民

IPC分类号： G02F1/1362

CPC分类号： G02F1/136213

摘要： 一种像素结构、阵列基板和显示装置，该像素结构包括：信号线；公共电极线，其与所述信号线的延伸方向相同；晶体管，其包括半导体层，所述半导体层包括源极区和漏极区；第一存储电极，其与所述公共电极线绝缘、与所述半导体层的漏极区连接；第二存储电极，其与所述公共电极线连接且与所述第一存储电极绝缘。在该像素结构中，所述第一存储电极和所述第二存储电极都包括设置于所述信号线和所述公共电极线之间且彼此交叠的部分，以形成第一存储电容。本发明实施例可以提高像素结构的存储电容。