一种液晶滴注装置和液晶滴注方法

    公开(公告)号:CN105446024B

    公开(公告)日:2018-09-04

    申请号:CN201610015526.6

    申请日:2016-01-11

    发明人: 井杨坤 刘满成

    IPC分类号: G02F1/1341

    摘要: 本发明提供一种液晶滴注装置和液晶滴注方法,属于液晶滴注技术领域,其可解决现有的液晶滴注装置无法确保每张面板上的液晶滴注量相同,以及需要对液晶滴注精度进行校正导致的液晶浪费的问题。本发明的液晶滴注装置,包括供给系统和滴注系统,所述供给系统与所述滴注系统相连;所述供给系统用于向所述滴注系统提供液晶;所述滴注系统用于控制所述供给系统提供液晶,并控制所述液晶滴注在面板上。

    转印设备和涂布机
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105644135A

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201610074209.1

    申请日:2016-02-02

    IPC分类号: B41F16/00 B41F27/12

    摘要: 本发明公开了一种转印设备和涂布机,所述转印设备包括转印版和印刷辊,所述转印版的凸起与所述印刷辊的凹槽相互配合以固定所述转印版和所述印刷辊,既可以解决所述转印版和所述印刷辊的对位问题,又可以通过调节转印版容纳聚酰亚胺的能力,对取向膜的取向性和均一性进行优化,从而增强液晶分子排列的有序性,最终提高显示面板的对比度。另外,本发明提供的技术方案通过真空吸附的方式代替机械固定的方式让转印版牢固地吸附在印刷辊上,即使受到印刷外力的作用转印版也不会发生延展形变和滑动。因此,本发明提供的技术方案可以避免转印版发生延展形变和滑动,保证生产印刷不会偏离,从而最大程度上保证产品品质。

    转印设备和涂布机
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105644135B

    公开(公告)日:2018-01-12

    申请号:CN201610074209.1

    申请日:2016-02-02

    IPC分类号: B41F16/00 B41F27/12

    摘要: 本发明公开了一种转印设备和涂布机,所述转印设备包括转印版和印刷辊,所述转印版的凸起与所述印刷辊的凹槽相互配合以固定所述转印版和所述印刷辊,既可以解决所述转印版和所述印刷辊的对位问题,又可以通过调节转印版容纳聚酰亚胺的能力,对取向膜的取向性和均一性进行优化,从而增强液晶分子排列的有序性,最终提高显示面板的对比度。另外,本发明提供的技术方案通过真空吸附的方式代替机械固定的方式让转印版牢固地吸附在印刷辊上,即使受到印刷外力的作用转印版也不会发生延展形变和滑动。因此,本发明提供的技术方案可以避免转印版发生延展形变和滑动,保证生产印刷不会偏离,从而最大程度上保证产品品质。