公开(公告)号：CN112464799B

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202011345552.8

申请日：2020-11-25

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方传感技术有限公司

发明人： 耿越 ,  李成 ,  李重寰 ,  王奎元 ,  代翼 ,  李泽飞 ,  祁朝阳 ,  丰亚洁 ,  李小贯

IPC分类号： G06V40/13 ,  H10K59/12

摘要： 一种指纹识别基板及其制备方法、识别方法和显示装置，所述指纹识别基板包括：基底以及设置在基底上的至少两种识别像素，第一识别像素包括第一光电二极管，第二识别像素包括第二光电二极管，其中：第一光电二极管包括第一电极、第一光电转换层和第二电极，第二光电二极管包括第一电极、第二光电转换层和第二电极；第一光电转换层和第二光电转换层对红光或红外光的光谱响应特性不同。本公开通过设置对红光或红外光的光谱响应特性不同的第一光电转换层和第二光电转换层，形成了两种或两种以上的识别像素，放大了指纹图像中各区域对指纹动态变化的敏感程度差异，提高了指纹识别的安全性和可靠性。

公开(公告)号：CN113138695B

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN202110427080.9

申请日：2021-04-20

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方传感技术有限公司

发明人： 耿越 ,  王奎元 ,  李成 ,  李重寰 ,  代翼 ,  丰亚洁 ,  祁朝阳 ,  李泽飞 ,  席聪聪 ,  李小贯

IPC分类号： G06F3/042 ,  G06F3/041 ,  G09F9/30

摘要： 本发明提供了一种探测基板及其信号采集方法、显示装置，涉及显示技术领域，该探测基板能够较好的清除残影，成像效果好。该探测基板被配置为在至少一个信号采集周期采集信号，信号采集周期按时序包括重置帧周期、至少一个清空帧周期、读取帧周期；重置帧周期包括至少一个正压重置帧子周期和至少一个负压重置帧子周期，且按时序第一个为正压重置帧子周期、最后一个为负压重置帧子周期。探测基板包括：阵列排布的多个像素单元，像素单元包括控制单元和光电转换单元；偏置单元；栅极控制单元；数据读取单元。本发明适用于探测基板的信号采集。

公开(公告)号：CN115088025A

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN202080003107.5

申请日：2020-11-30

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方传感技术有限公司

发明人： 丰亚洁 ,  李成 ,  耿越 ,  王奎元 ,  李泽飞 ,  祁朝阳 ,  代翼 ,  李小贯 ,  王迎姿

IPC分类号： G06V40/13 ,  H01L31/0216

摘要： 一种光学传感器阵列基板(30)及光学指纹采集器。光学传感器阵列基板(30)包括衬底(31)，衬底(31)包括探测区(30A)和围绕探测区(30A)的周边区(30R)，其中，探测区(30A)包括多个光敏像素(30a)，多个光敏像素(30a)的至少一个包括：薄膜晶体管(32)，设置在衬底(31)上，且具有栅极(32a)、有源层(32b)、源极(32c)和漏极(32d)；存储电容(33)，设置在衬底(31)上，并具有第一电容极板(33a)和第二电容极板(33b)，第二电容极板(33b)位于第一电容极板(33a)远离衬底(31)的一侧，并与薄膜晶体管(32)的源极(32c)或漏极(32d)电连接；光敏元件(39)，位于存储电容(33)远离衬底(31)的一侧，且一端与第二电容极板(33b)电连接；第一电极层(36a)，位于光敏元件(39)远离衬底(31)一侧，并与光敏元件(39)的另一端电连接，其中，第二电容极板(33b)在衬底(31)的正投影与第一电极层(36a)在衬底(31)的正投影至少部分重合。

公开(公告)号：CN115082970A

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN202210681118.X

申请日：2022-06-16

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方传感技术有限公司

发明人： 丰亚洁 ,  李成 ,  耿越 ,  代翼 ,  祁朝阳 ,  席聪聪 ,  王迎姿

IPC分类号： G06V40/12 ,  G06V40/13

摘要： 本发明公开一种指纹采集装置，包括：第一壳体，具有指纹采集模块，所述指纹采集模块具有暴露于所述第一壳体表面的采集面；第二壳体，具有显示模块；以及第三壳体，所述第三壳体的两端分别可转动地连接于所述第一壳体和第二壳体，以使所述第二壳体能够翻转至所述第一壳体上方，所述第一壳体与所述第二壳体的水平投影相重叠，所述第二壳体的水平投影覆盖所述采集面。本发明通过将第二壳体翻转至第一壳体的上方，使第二壳体能够遮挡住从上方照射过来的光线，避免外界的光线直射到第一壳体的采集面上，从而减少环境光对指纹采集模块的干扰。

公开(公告)号：CN110378309B

公开(公告)日：2022-04-26

申请号：CN201910677288.9

申请日：2019-07-25

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方传感技术有限公司

发明人： 詹小舟 ,  李成 ,  薛艳娜 ,  丰亚洁 ,  王奎元 ,  耿越

IPC分类号： G06V40/13

摘要： 本公开提供一种电子设备及纹路识别装置，涉及图像识别技术领域。本公开的纹路识别装置包括感应层、透明接触层、遮光层和多个光源。感应层包括多个阵列分布的感光单元；透明接触层设于感应层的一侧；遮光层设于感应层和透明接触层之间，遮光层包括多个阵列排布的透光部；多个光源各光源阵列分布于遮光层靠近透明接触层的一侧，光源发射的光经过透明接触层反射，穿过透光部传输至感光单元。本公开的纹路识别装置能够减小厚度，降低成本。

公开(公告)号：CN114332959A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202111614924.7

申请日：2021-12-20

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方传感技术有限公司

发明人： 席聪聪 ,  李成 ,  代翼 ,  李泽飞 ,  王奎元 ,  丰亚洁 ,  耿越 ,  祁朝阳 ,  李重寰 ,  于策

IPC分类号： G06V40/12 ,  G06V40/13

摘要： 本公开提供的指纹验证方法、装置、电子设备、存储介质及程序，属于计算机技术领域。所述方法包括：通过光学指纹采集组件对目标对象的指纹进行短曝光拍摄，获取短曝光指纹图像；在短曝光指纹图像与短曝光临时模板图像比对通过的情况下，确认目标对象的指纹验证通过，并通过短曝光指纹图像更新短曝光临时模板图像；在短曝光指纹图像与短曝光临时模板图像比对未通过的情况下，通过光学指纹组件对目标对象的指纹进行长曝光拍摄，获取长曝光指纹图像；在长曝光指纹图像与长曝光临时模板图像比对通过的情况下，确认目标对象的指纹验证通过，并通过长曝光指纹图像更新长曝光临时模板图像。本方案在保证指纹验证的准确率的同时，提高了指纹验证的效率。

公开(公告)号：CN110064449B

公开(公告)日：2021-09-03

申请号：CN201910412333.8

申请日：2019-05-17

申请人： 北京京东方传感技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 耿越 ,  董学

IPC分类号： B01L3/00

摘要： 本发明提供一种生物液滴检测基板及其制备方法和检测装置。该检测基板包括对合设置的上基板和下基板，上基板与下基板之间形成间隙，间隙用于容纳生物液滴，在上基板或下基板侧还设置有驱动电极，驱动电极能在通电状态下控制生物液滴移动，检测基板还包括激光光源，激光光源设置于上基板或下基板侧，用于为生物液滴的检测提供光照。该检测基板在操控生物液滴的基础上又集成了检测用的光源，从而提高了该检测基板的集成度，同时使检测用光源无需再设置在额外的检测设备上，进而有利于该检测基板的便携式和采用该检测基板的检测设备的小型化。

公开(公告)号：CN113312599A

公开(公告)日：2021-08-27

申请号：CN202110587079.2

申请日：2021-05-27

申请人： 北京京东方传感技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 代翼 ,  耿越 ,  李成 ,  王奎元 ,  丰亚洁 ,  李泽飞 ,  祁朝阳 ,  李重寰 ,  席聪聪 ,  李小贯 ,  王迎姿

IPC分类号： G06F21/32 ,  G06F1/3234

摘要： 本发明公开了一种指纹解锁方法和装置、电子设备及计算机可读存储介质，所述方法包括：在接收到用户的触碰信号时，获取当前环境光亮度；在当前环境光亮度小于预设亮度阈值时，对屏幕指纹检测区域进行缩小处理；在触碰信号对应的触碰位置处于缩小后的屏幕指纹检测区域时，点亮触碰位置对应的屏幕，并获取用户的指纹信息；根据用户的指纹信息进行指纹解锁。由此，该方法根据环境光亮度对屏幕指纹检测区域进行处理，能够在利用大面积屏下指纹解锁的优势下，有效避免大面积指纹识别区域而引发的手指误触解锁，同时还可以降低屏幕功耗。

公开(公告)号：CN109873053B

公开(公告)日：2021-02-09

申请号：CN201910256479.8

申请日：2019-04-01

申请人： 北京京东方传感技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 董学 ,  耿越 ,  蔡佩芝

IPC分类号： H01L31/18 ,  H01L27/144 ,  B01L3/00

摘要： 本发明公开了一种阵列基板、其制备方法及数字微流控芯片，由于微转印工艺是基于硅基工艺的，硅基工艺下制备的光电二极管具有很好的器件性能，从而通过微转印工艺将光电二极管形成在衬底基板上，可以解决直接利用玻璃基板制备的光电二极管的光电特性不佳的问题，进而改善形成的光电二极管的性能。

公开(公告)号：CN111886197A

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN201980000016.3

申请日：2019-01-03

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方传感技术有限公司

发明人： 耿越 ,  肖月磊 ,  廖辉 ,  蔡佩芝 ,  李建 ,  吴申康

IPC分类号： B81C1/00

摘要： 一种膜层的构图方法，包括：提供具有第一表面(11)的膜层(1)；在膜层(1)的第一表面(11)上形成n个刻蚀阻挡层(21，22)，n为大于等于2的整数；以及利用n个刻蚀阻挡层(21，22)作为掩模对膜层(1)进行n次刻蚀而在第一表面(11)上形成凹陷结构，凹陷结构包括n种深度(h1，h2)不同的底面(1001，102)，所述深度(h1，h2)是在垂直于膜层(1)的方向上从不同底面(1001，102)到第一表面(11)的距离，n次刻蚀中的相邻两次刻蚀包括在前刻蚀和在后刻蚀，在完成在前刻蚀之后，去除n个刻蚀阻挡层(21，22)的一部分以形成在后刻蚀的掩模，其中n个刻蚀阻挡层(21，22)的被去除的部分的材料与在后刻蚀的掩模的材料至少部分不同。该膜层构图方法在满足精度要求的同时，制作工艺简单，生产效率较高。