具有良好平坦度的基板卡盘的曝光装置

    公开(公告)号:CN1873541B

    公开(公告)日:2010-07-07

    申请号:CN200610083488.4

    申请日:2006-05-30

    发明人: 郑熙旭 车相焕

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本发明公开了一种曝光装置,包括:掩模平台;用于支撑该掩模平台的支撑体;位于掩模平台下部的基板;用于支撑该基板的基板卡盘;用于移动该基板卡盘的基板卡盘移动装置;安装在基板卡盘移动装置上用于控制基板和掩模平台之间间隙的间隙动力单元;以及用于恒定保持基板卡盘平坦度的基板卡盘平坦度保持装置。因此,即使对大基板也能够以恒定的平坦度执行曝光工艺。

    储备系统
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1673055B

    公开(公告)日:2010-04-28

    申请号:CN200510056827.5

    申请日:2005-03-25

    发明人: 郑熙旭

    IPC分类号: B65G1/04

    CPC分类号: B65G1/0407

    摘要: 本发明公开了一种储备系统及其操作方法。该储备系统包括搁板组件、第一升降架和第二升降架,所述搁板组件存储多个盒。所述第一升降架安装在所述搁板组件的一侧并且向/从所述搁板组件加载/卸载盒。所述第二升降架安装在所述搁板组件的另一侧并且向/从所述搁板组件加载/卸载盒。