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公开(公告)号:CN117169293B
公开(公告)日:2024-02-27
申请号:CN202311433819.2
申请日:2023-11-01
Applicant: 之江实验室
IPC: G01N27/12
Abstract: 本发明公开了一种MOS基气敏材料及其制备方法和应用。所述MOS基气敏材料的制备方法按照如下步骤进行:步骤1:将目标MOS前驱体盐或者目标MOS前驱体盐和贵金属源溶解于极性溶剂中,形成均一溶液;再加入高分子聚合物在20~60℃环境下搅拌5~20小时形成均匀溶胶;步骤2:将得到的溶胶刮涂到硅油纸上成膜,然后迅速干燥;步骤3:将干燥的薄膜从硅油纸上揭下,研磨后置于马弗炉中分段煅烧,得到MOS基气敏材料。本发明提供的MOS基气敏材料可用于检测挥发性有机化合物中。本发明提供的MOS基气敏材料的制备方法提高了制备的样品的均一性,同时具有高重现性、高生产效率和高普适性。
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公开(公告)号:CN117169293A
公开(公告)日:2023-12-05
申请号:CN202311433819.2
申请日:2023-11-01
Applicant: 之江实验室
IPC: G01N27/12
Abstract: 本发明公开了一种MOS基气敏材料及其制备方法和应用。所述MOS基气敏材料的制备方法按照如下步骤进行:步骤1:将目标MOS前驱体盐或者目标MOS前驱体盐和贵金属源溶解于极性溶剂中,形成均一溶液;再加入高分子聚合物在20~60℃环境下搅拌5~20小时形成均匀溶胶;步骤2:将得到的溶胶刮涂到硅油纸上成膜,然后迅速干燥;步骤3:将干燥的薄膜从硅油纸上揭下,研磨后置于马弗炉中分段煅烧,得到MOS基气敏材料。本发明提供的MOS基气敏材料可用于检测挥发性有机化合物中。本发明提供的MOS基气敏材料的制备方法提高了制备的样品的均一性,同时具有高重现性、高生产效率和高普适性。
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