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1.

外观设计
化妆用的面具失效

公开(公告)号：CN3054141D

公开(公告)日：1997-01-29

申请号：CN96300463.8

申请日：1996-01-12

Applicant: 久光制药株式会社

Designer： ∴户隆 , 久住重雄 , 大石茂弘

Abstract: 后视图与主视图相同，省略后视图。

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