由氨制备氢气的方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103118971A

    公开(公告)日:2013-05-22

    申请号:CN201180045225.3

    申请日:2011-07-06

    IPC分类号: C01B3/04

    摘要: 本发明提供一种由氨制备氢气的方法,该方法由氨生成作为助燃剂供给至氨燃烧引擎的氢气,从而减少氨分解装置中分解催化剂的填充量,维持氢气的生产率,并降低氢气的制备成本,进而能够高效、顺畅且低成本地实现氨燃烧引擎的运转。本发明具备氨分解装置及氨氧化装置;所述氨分解装置生成作为助燃剂的氢气;所述氨氧化装置,为了向氨分解反应供给所需的热量,通过氧化催化剂的作用,使部分导入的氨与氧气反应、燃烧;根据氨氧化催化剂层的入口温度,控制导入氧化装置的氨量及空气量,使氨分解装置中的氨分解率一直保持在40~60%。

    沸石分离膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN108697997B

    公开(公告)日:2021-05-14

    申请号:CN201780009160.4

    申请日:2017-02-17

    IPC分类号: B01D71/02 B01D69/12 C01B37/02

    摘要: 本发明提供一种不会因水分子的吸附而导致处理量降低的、分离二氧化碳等的全硅沸石分离膜及其制造方法。本发明之一为一种沸石分离膜,其为在多孔载体上形成的沸石晶体结构的骨架为全硅的沸石分离膜,其特征在于,多孔载体上形成的沸石晶体结构为无氟。另一个发明为一种沸石分离膜的制造方法,其为在多孔载体上具有沸石晶体结构的沸石分离膜的制造方法,其特征在于,包括:制造晶种的步骤;将晶种涂布在多孔载体上的步骤;制备膜合成原料组合物的步骤;以及,将涂布有晶种的多孔载体浸渍于膜合成原料组合物并进行水热合成的步骤,膜合成原料组合物包含硅源及有机模板剂,不包含氟化合物。

    氨的合成方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103108994A

    公开(公告)日:2013-05-15

    申请号:CN201180035396.8

    申请日:2011-06-03

    摘要: 本发明提供一种氨的合成方法,其能够不使用氢气而合成氨,由于不使用现有的作为氢源的天然气等化石燃料,因此不会因化石燃料上涨导致氨的制备成本上升,也不会因二氧化碳的排放导致对环境的负荷,并且由于是在常温、常压下的合成,能源消耗、设备规模小,经济性优异。该氨的合成方法是在电解质相中,以规定间隔配置阳极和阴极,在阳极区供给水的同时,照射光,水通过光吸收反应而分解,形成质子、电子及氧气,在阴极区供给氮气,通过导线将在阳极区生成的电子转移至阴极区,在阴极区形成N3-,通过使在电解质相内从阳极区转移至阴极区侧的质子与N3-反应,合成氨。

    氨的合成方法
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103108994B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201180035396.8

    申请日:2011-06-03

    摘要: 本发明提供一种氨的合成方法,其能够不使用氢气而合成氨,由于不使用现有的作为氢源的天然气等化石燃料,因此不会因化石燃料上涨导致氨的制备成本上升,也不会因二氧化碳的排放导致对环境的负荷,并且由于是在常温、常压下的合成,能源消耗、设备规模小,经济性优异。该氨的合成方法是在电解质相中,以规定间隔配置阳极和阴极,在阳极区供给水的同时,照射光,水通过光吸收反应而分解,形成质子、电子及氧气,在阴极区供给氮气,通过导线将在阳极区生成的电子转移至阴极区,在阴极区形成N3-,通过使在电解质相内从阳极区转移至阴极区侧的质子与N3-反应,合成氨。

    沸石分离膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN108697997A

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201780009160.4

    申请日:2017-02-17

    IPC分类号: B01D71/02 B01D69/12 C01B37/02

    摘要: 本发明提供一种不会因水分子的吸附而导致处理量降低的、分离二氧化碳等的全硅沸石分离膜及其制造方法。本发明之一为一种沸石分离膜,其为在多孔载体上形成的沸石晶体结构的骨架为全硅的沸石分离膜,其特征在于,多孔载体上形成的沸石晶体结构为无氟。另一个发明为一种沸石分离膜的制造方法,其为在多孔载体上具有沸石晶体结构的沸石分离膜的制造方法,其特征在于,包括:制造晶种的步骤;将晶种涂布在多孔载体上的步骤;制备膜合成原料组合物的步骤;以及,将涂布有晶种的多孔载体浸渍于膜合成原料组合物并进行水热合成的步骤,膜合成原料组合物包含硅源及有机模板剂,不包含氟化合物。