具有增透效应薄膜的发光二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN101621106B

    公开(公告)日:2012-05-16

    申请号:CN200910101320.5

    申请日:2009-07-30

    Abstract: 本发明涉及发光二极管领域,旨在提供一种具有增透效应薄膜的发光二极管,包括LED发光芯片、反光碗和LED发光芯片的引出导线,LED发光芯片置于反光碗内,LED发光芯片和反光碗封装于封装胶体内;所述LED发光芯片的出光面镀有电介质氧化物增透薄膜;LED发光芯片、电介质氧化物增透薄膜、封装胶体组成的膜系结构为Sub1/(HL)^n/Sub2,Sub1为LED发光芯片的半导体材料,Sub2为封装胶体,L为镀膜的低折射率电介质氧化物材料,H为镀膜的高折射率电介质氧化物材料,2n为膜层总数,n=1-60;L、H均为电介质材料中的钛、钽、铪、硅、锆、锡、锌、锗、铝中的一种的氧化物。

    具有增透效应薄膜的发光二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN101621106A

    公开(公告)日:2010-01-06

    申请号:CN200910101320.5

    申请日:2009-07-30

    Abstract: 本发明涉及发光二极管领域,旨在提供一种具有增透效应薄膜的发光二极管,包括LED发光芯片、反光碗和LED发光芯片的引出导线,LED发光芯片置于反光碗内,LED发光芯片和反光碗封装于封装胶体内;所述LED发光芯片的出光面镀有电介质氧化物增透薄膜;LED发光芯片、电介质氧化物增透薄膜、封装胶体组成的膜系结构为Sub1/(HL)^n/Sub2,Sub1为LED发光芯片的半导体材料,Sub2为封装胶体,L为镀膜的低折射率电介质氧化物材料,H为镀膜的高折射率电介质氧化物材料,2n为膜层总数,n=1-60;L、H均为电介质材料中的钛、钽、铪、硅、锆、锡、锌、锗、铝中的一种的氧化物。

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