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公开(公告)号：CN102608356B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：CN201210059387.9
申请日：2012-03-01
Applicant: 中国计量学院
Abstract: 本发明公开了一种双轴体微机械谐振式加速度计结构及制作方法，属于微电子机械系统领域。组成谐振式加速度计的谐振梁(1)位于衬底上表面，蟹腿型支撑梁(2)的中性面与质量块(3)的重心在同一平面。谐振梁(1)和蟹腿型支撑梁(2)通过五次光刻和三次各向异性湿法腐蚀工艺制作在同一硅片上。首先，背面光刻，有掩膜腐蚀工艺从谐振梁(1)背面腐蚀硅到一定深度。然后正反面光刻，去除腐蚀槽(8)中除谐振梁(1)和蟹腿型支撑梁(2)以外部分的腐蚀掩蔽层(9)，有掩膜腐蚀硅到另一深度。最后，去除蟹腿型支撑梁(2)正反面的腐蚀掩蔽层(9)，掩膜和无掩膜腐蚀相结合实现谐振梁(1)和蟹腿型支撑梁(2)的同时成型。该双轴体微机械谐振式加速度计具有较小的交叉轴干扰和较高的灵敏度。
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公开(公告)号：CN102608356A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201210059387.9
申请日：2012-03-01
Applicant: 中国计量学院
Abstract: 本发明公开了一种双轴体微机械谐振式加速度计结构及制作方法，属于微电子机械系统领域。组成谐振式加速度计的谐振梁(1)位于衬底上表面，蟹腿型支撑梁(2)的中性面与质量块(3)的重心在同一平面。谐振梁(1)和蟹腿型支撑梁(2)通过五次光刻和三次各向异性湿法腐蚀工艺制作在同一硅片上。首先，背面光刻，有掩膜腐蚀工艺从谐振梁(1)背面腐蚀硅到一定深度。然后正反面光刻，去除腐蚀槽(8)中除谐振梁(1)和蟹腿型支撑梁(2)以外部分的腐蚀掩蔽层(9)，有掩膜腐蚀硅到另一深度。最后，去除蟹腿型支撑梁(2)正反面的腐蚀掩蔽层(9)，掩膜和无掩膜腐蚀相结合实现谐振梁(1)和蟹腿型支撑梁(2)的同时成型。该双轴体微机械谐振式加速度计具有较小的交叉轴干扰和较高的灵敏度。
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公开(公告)号：CN102602879A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201210059372.2
申请日：2012-03-01
Applicant: 中国计量学院
IPC: B81C1/00 , G01P15/097
Abstract: 本发明公开了一种谐振式加速度计谐振梁和支撑梁的二步腐蚀制造方法，属于微电子机械系统领域。本发明的目的在于在同一硅片(3)上制作出不在同一平面的谐振梁(1)和支撑梁(2)，谐振梁(1)位于衬底上表面，支撑梁(2)的中性面与质量块(4)的重心在同一平面。在制作技术方面的特征在于：首先采用有掩膜腐蚀工艺从谐振梁(1)背面腐蚀到一定深度；然后正反两面光刻，腐蚀或刻蚀腐蚀槽(6)除谐振梁(1)和质量块(4)凸角补偿部分以外的腐蚀掩蔽层(7)；最后，采用掩膜和无掩膜腐蚀相结合实现谐振梁(1)和支撑梁(2)的一次成型，谐振梁(1)和支撑梁(2)的厚度同时达到设定值。本制造方法使制作的谐振式加速度计结构简单，具有较小的交叉轴干扰。
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公开(公告)号：CN102602879B
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201210059372.2
申请日：2012-03-01
Applicant: 中国计量学院
IPC: B81C1/00 , G01P15/097
Abstract: 本发明公开了一种谐振式加速度计谐振梁和支撑梁的二步腐蚀制造方法，属于微电子机械系统领域。本发明的目的在于在同一硅片(3)上制作出不在同一平面的谐振梁(1)和支撑梁(2)，谐振梁(1)位于衬底上表面，支撑梁(2)的中性面与质量块(4)的重心在同一平面。在制作技术方面的特征在于：首先采用有掩膜腐蚀工艺从谐振梁(1)背面腐蚀到一定深度；然后正反两面光刻，腐蚀或刻蚀腐蚀槽(6)除谐振梁(1)和质量块(4)凸角补偿部分以外的腐蚀掩蔽层(7)；最后，采用掩膜和无掩膜腐蚀相结合实现谐振梁(1)和支撑梁(2)的一次成型，谐振梁(1)和支撑梁(2)的厚度同时达到设定值。本制造方法使制作的谐振式加速度计结构简单，具有较小的交叉轴干扰。
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