一种抗溶剂量子点薄膜的制备方法与量子点薄膜

    公开(公告)号:CN116836703A

    公开(公告)日:2023-10-03

    申请号:CN202310208650.4

    申请日:2023-03-07

    Abstract: 本发明公开了一种抗溶剂量子点薄膜的制备方法与量子点薄膜,其中,方法包括步骤:将胶体量子点制备成一层或多层量子点薄膜,成膜后量子点薄膜中的溶剂挥发,形成只有量子点的量子点薄膜;将量子点薄膜将量子点薄膜放入极性质子溶剂气氛的腔体中;热处理一定时间,从而得到具有抗溶剂性的量子点薄膜。发明的耗时短,操作简单,调节要求低,对反应物无特殊要求,而且不会产生新物质。另外,本发明制备的量子点薄膜其光学及电学性质没有变化,能够扩大溶液法的应用和选材范围。

    一种抗溶剂量子点薄膜的制备方法与量子点薄膜

    公开(公告)号:CN116836703B

    公开(公告)日:2024-09-17

    申请号:CN202310208650.4

    申请日:2023-03-07

    Abstract: 本发明公开了一种抗溶剂量子点薄膜的制备方法与量子点薄膜,其中,方法包括步骤:将胶体量子点制备成一层或多层量子点薄膜,成膜后量子点薄膜中的溶剂挥发,形成只有量子点的量子点薄膜;将量子点薄膜将量子点薄膜放入极性质子溶剂气氛的腔体中;热处理一定时间,从而得到具有抗溶剂性的量子点薄膜。发明的耗时短,操作简单,调节要求低,对反应物无特殊要求,而且不会产生新物质。另外,本发明制备的量子点薄膜其光学及电学性质没有变化,能够扩大溶液法的应用和选材范围。

    一种修饰无铅金属卤化物发光二极管中空穴注入层的方法

    公开(公告)号:CN114597321A

    公开(公告)日:2022-06-07

    申请号:CN202210214350.2

    申请日:2022-03-07

    Abstract: 本发明公开了一种修饰无铅金属卤化物发光二极管中空穴注入层的方法。上述无铅金属卤化物发光二极管从下到上依次为:ITO层、修饰的空穴注入层、无铅金属卤化物发光层、电子注入层、电极修饰层和金属电极。上述修饰的空穴注入层是通过聚苯乙烯磺酸钠(Poly(sodium‑p‑styrenesulfonate),PSSNa)水溶液与PEDOT:PSS掺杂而形成的。该修饰材料,能够减少空穴注入,平衡载流子传输,钝化表面缺陷,操作方便,容易控制,价格低廉。基于修饰空穴注入层的无铅金属卤化物发光二极管,性能显著提升。

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