发光材料、防伪光学薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN119351084A

    公开(公告)日:2025-01-24

    申请号:CN202411918183.5

    申请日:2024-12-25

    Abstract: 本发明属于发光材料技术领域,具体涉及发光材料、防伪光学薄膜及其制备方法。所述发光材料的化学通式为SrGa12‑xMnxO19/Ga2O3,其中,x=0.025~0.035。防伪光学薄膜的制备方法,包括以下步骤:将发光材料和PDMS聚合物、固化剂混合均匀得到胶体,固化后得到光学薄膜,发光材料和PDMS聚合物的质量比为1:0.65~1.5,PDMS聚合物和固化剂的质量比为9~10:1。本发明解决了现有技术无机荧光粉只有光致发光一种发光模式,存在防伪效果差,易于仿造的缺点。

    发光材料、防伪光学薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN119351084B

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202411918183.5

    申请日:2024-12-25

    Abstract: 本发明属于发光材料技术领域,具体涉及发光材料、防伪光学薄膜及其制备方法。所述发光材料的化学通式为SrGa12‑xMnxO19/Ga2O3,其中,x=0.025~0.035。防伪光学薄膜的制备方法,包括以下步骤:将发光材料和PDMS聚合物、固化剂混合均匀得到胶体,固化后得到光学薄膜,发光材料和PDMS聚合物的质量比为1:0.65~1.5,PDMS聚合物和固化剂的质量比为9~10:1。本发明解决了现有技术无机荧光粉只有光致发光一种发光模式,存在防伪效果差,易于仿造的缺点。

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