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发明公开
一种利用环路径向剪切干涉术测量附面层密度场的方法无效

公开(公告)号：CN112113739A

公开(公告)日：2020-12-22

申请号：CN202010923061.0

申请日：2020-09-04

Applicant: 中国空气动力研究与发展中心高速空气动力研究所

Inventor： 蒲泓宇 , 刘常青 , 李增军 , 邓海均 , 杨治 , 李仕勇 , 张颖

IPC: G01M9/06 , G01J9/02

Abstract: 本发明公开一种利用环路径向剪切干涉术测量附面层密度场的方法，采用共光路结构，易于在附面层测量环境下布局使用，利用基于空间位相调制的快速算法，可以对附面层流场进行动态实时检测。该系统波前检测精度高，抗噪抗干扰性能良好，试验表明，0.7马赫数以下，可抑制气流振动干扰，显著区分出扰流与背景，在流场测量这种实时性要求比较高的场合有广泛的应用前景。

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