一种激光气相合成纳米粉反应装置

    公开(公告)号:CN1090992C

    公开(公告)日:2002-09-18

    申请号:CN98113824.1

    申请日:1998-03-10

    Abstract: 一种激光气相合成纳米粉反应装置,其特征在于:反应室的光路系统由1个透射镜F和2n+1个球面反射镜平面设计构成,n=1~20;激光束垂直通过透射镜F进入反应室,透射镜F和第一个球面反射镜MR1中心连线通过反应区中心点A,其余球面反射镜MR2i、MR2i+1两两一组中心连线通过A。本发明是根据透镜和球面反射镜对高斯多模激光的变换以及多模激光的传播理论,结合大功率CWCO2激光器输出激光束特性,设计一套透--反光学系统,实现激光功率在反应区多次共焦聚焦、叠加,从而达到显著提高激光光能利用率的目的。

    一种复合激光化学气相沉积金刚石膜的方法

    公开(公告)号:CN1221806A

    公开(公告)日:1999-07-07

    申请号:CN97122035.2

    申请日:1995-09-11

    Abstract: 一种复合激光化学气相沉积金刚石膜的方法,最低沉积温度为250℃,其特征在于选用波长在308nm的XeCl准分子激光作激光源,同时复合辐照红外激光,波长范围在1.06μm~10.6μm,过程如下:将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上,用XeCl准分子激光和红外激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区,并在预抽真空的反应室中通入能吸收该激光波长的碳氢化合物反应气(含汽化液体或固体)和氢气,碳氢化合物反应气与氢气的流量比为(1~3)∶100,在适当工艺条件下,在衬底表面沉积出金刚石膜,工艺条件是:XeCl激光单脉冲能量20~500j/pules;XeCl激光脉宽15~40ms;脉冲频率5~40Hz。本发明所制膜层纯度高,沉积温度低,易于实现,安全可靠。

    一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法

    公开(公告)号:CN1047408C

    公开(公告)日:1999-12-15

    申请号:CN95111978.8

    申请日:1995-09-11

    Abstract: 一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法,最低沉积温度为250℃,其特征在于选用波长在308nm的XeCl准分子激光作激光源,过程如下:将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上,用XeCl准分子激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区,并在预抽真空的反应室中通入能吸收该激光波长的碳氢化合物反应气(含汽化液体或固体)和氢气,碳氢化合物反应气与氢气的流量比为(1~3)∶100,在适当工艺条件下,在衬底表面沉积出金刚石膜,工艺条件是:XeCl激光单脉冲能量20~500mj/pules;XeCl激光脉宽15~40ns;脉冲频率5~40Hz。本发明所制膜层纯度高,沉积温度低,易于实现,安全可靠。

    一种激光气相合成纳米粉反应装置

    公开(公告)号:CN1228398A

    公开(公告)日:1999-09-15

    申请号:CN98113824.1

    申请日:1998-03-10

    Abstract: 一种激光气相合成纳米粉反应装置,其特征在于:反应室的光路系统由1个透射镜F和2n+1个球面反射镜平面设计构成n=1~20;激光束垂直通过透射镜F进入反应室,透射镜F和第一个球面反射镜MR1中心连线通过反应区中心点A,其余球面反射镜MR2i、MR2i+1两两一组中心连线通过A。本发明是根据透镜和球面反射镜对高斯多模激光的变换以及多模激光的传播理论,结合大功率CWCO2激光器输出激光束特性,设计一套透—反光学系统,实现激光功率在反应区多次共焦聚焦、叠加,从而达到显著提高激光光能利用率的目的。

    一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法

    公开(公告)号:CN1122378A

    公开(公告)日:1996-05-15

    申请号:CN95111978.8

    申请日:1995-09-11

    Abstract: 一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法,最低沉积温度为250℃,其特征在于选用波长在308nm的XeCl准分子激光作激光源,过程如下:将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上,用XeCl准分子激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区,并在预抽真空的反应室中通入能吸收该激光波长的碳氢化合物反应气(含汽化液体或固体)和氢气,碳氢化合物反应气与氢气的流量比为(1-3)∶100,在适当工艺条件下,在衬底表面沉积出金刚石膜,工艺条件是:单脉冲能量20-500mj/pulse脉宽15-40ns脉冲频率5-40Hz。本发明所制膜层纯度高,沉积温度低,易于实现,安全可靠。

    一种表面硬化激光处理工艺及装置

    公开(公告)号:CN86104349A

    公开(公告)日:1988-02-03

    申请号:CN86104349

    申请日:1986-07-15

    Abstract: 一种表面硬化激光处理工艺及装置,其主要特征是将长圆筒工件放置在一个可以产生螺旋运动的激光装置上,激光束由单模或低阶模CO2激光器输出,输出的激光束通过反射镜(2)导入圆筒内表面,同时由微机数控转动机构,使圆筒的转动与球面聚焦反射镜支承杆(7)的移动相配合,产生螺旋面扫描,从而可完成对长圆筒内表面的硬化处理。本装置可采用不同的工艺条件处理不同材料的长圆筒。

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