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公开(公告)号：CN115773863A
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN202211529122.0
申请日：2022-11-30
申请人： 中国科学院西安光学精密机械研究所
IPC分类号： G01M11/02
摘要： 本发明涉及X射线聚焦镜装调方法，具体涉及一种用于X射线聚焦镜的镜片误差检测方法，解决了现有技术中无法分辨X射线聚焦镜装调过程中镜片的误差类型及误差位置的技术问题。本发明通过对离焦光斑图像在不同方位角位置的环宽数据特性的分析确定误差类型，并根据离焦光斑图像确定产生误差的位置，可简单有效地判定X射线聚焦镜在装调过程中的姿态及面型误差位置，在以前的X射线光学系统中从未采用，适用于大遮拦比光学系统的装调角度和本征面型误差判定。
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公开(公告)号：CN114068060A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202111294199.X
申请日：2021-11-05
申请人： 中国科学院西安光学精密机械研究所 , 中国科学院高能物理研究所
摘要： 本发明提出一种两个多层嵌套薄片结构对准系统及装调方法，该系统包括光学平台、五维调节结构、聚焦光学结构、准直光学结构、远心光学系统、参考镜、自准直经纬仪和远心系统导轨等，其中聚焦光学结构和准直光学结构均为多层嵌套的薄壁结构，要求两者对应层的镜片对准安装。首先通过目测以及五维调节结构对准直光学结构的姿态和位置进行初步调整；然后采用自准直经纬仪和远心光学系统分别对其姿态和位置进行精确校准，并利用五维调节结构对准直光学结构姿态和位置进行精密调节；最后通过五维调节结构对准直光学结构和聚焦光学结构两者之间的距离进行调节，完成其安装固定。
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公开(公告)号：CN112652510A
公开(公告)日：2021-04-13
申请号：CN202011490623.3
申请日：2020-12-16
申请人： 中国科学院西安光学精密机械研究所
IPC分类号： H01J31/12
摘要： 本发明提供一种大视场、低像差电子光学成像系统及成像方法，解决现有多束、大视场电子光学系统的像差性能无法满足要求的问题。该成像系统包括依次设置的电子源、加速电极阵列、单透镜和物镜；电子源用于发出多束电子，多束电子的电位从中心向外依次减小；加速电极阵列位于电子源下方，包括多个加速电极，用于对电子源出射的电子进行等能量加速；单透镜、物镜处于加速电极下方，将加速后的电子聚焦并以固定缩放比成像至靶面处。本发明系统中，出射的电子经加速电极加速后，外围电子因具有较大动能，从而能有效减少其在电子光学系统中的飞行时间，从而保证处于不同位置的电子受到空间电荷效应影响一致，保证大视场电子光学系统的低像差性能。
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公开(公告)号：CN115728891B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202211477640.2
申请日：2022-11-23
申请人： 中国科学院西安光学精密机械研究所
IPC分类号： G02B7/00
摘要： 本发明涉及一种用于光学精密机械领域的对准装置，具体涉及一种可精密调节的对准装置及其使用方法。解决了现有多维调节的复合型结构对准装置，无法进行中心通光和多维精密调节，且承重弱和可承载体积较小的技术问题。本发明对准装置包括支撑组件、载物组件以及精调组件；支撑组件包括多根导向轴和多根顶柱；载物组件包括姿态调节板、位置调节板、待对准物支撑件和基准物支撑件；姿态调节板套设在多根导向轴上；待对准物支撑件设置在位置调节板上；精调组件包括多个位置调节微分头和多个姿态调节微分头；多个姿态调节微分头设置在姿态调节板上，用于减小姿态偏差，多个位置调节微分头设置在位置调节板侧壁上，用于减小位置偏差。
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公开(公告)号：CN116053100B
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202211476658.0
申请日：2022-11-23
申请人： 中国科学院西安光学精密机械研究所
IPC分类号： H01J35/10
摘要： 本发明涉及一种X射线源，具体涉及一种可快速切换不同靶材的X射线源及其使用方法。解决了现有X射线源需不断更换不同靶材才能得到不同的射线能谱，导致测试效率较低的技术问题。本发明X射线源包括腔体、阳极组件和阴极组件。阳极组件包括旋转手轮、定位筒、靶座、定位珠和磁流体。磁流体包括壳体和中心滚轴；定位筒固定在壳体上；定位筒上设有定位珠；靶座和旋转手轮分别设置在中心滚轴上端和下端，靶座上设有多个靶材槽；旋转手轮上设有与定位珠配合定位的多个第一凹槽。阴极组件包括阴极盖，设置在阴极盖上的阴极灯丝、支撑件，以及设置在支撑件上的两个导通螺钉和两个高压插头，两个高压插头伸入到支撑件内，并分别与两个导通螺钉连接。
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公开(公告)号：CN118225819A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202410136882.8
申请日：2024-01-31
申请人： 中国科学院西安光学精密机械研究所
IPC分类号： G01N23/20 , G01N23/20008
摘要： 本发明公开了一种X射线反射膜效率测定系统，其包括X射线源、第一横狭缝、第一竖狭缝、反射膜放置单元、第二横狭缝、第二竖狭缝、X射线探测器、底座、调节台、限位块、支撑柱、真空腔、操作端。反射膜放置单元与支撑柱固定连接，支撑柱位于调节台上，支撑柱可以带动待测定反射膜的转动。本发明还公开了一种X射线反射膜效率测定方法，该方法使用X射线反射膜效率测定系统，测定在真空条件下进行，待测定X射线反射膜移出光路，记录X射线探测器的最大计数率I0；调整调节台，使待测定X射线反射膜转角为α，记录X射线探测器的最大计数率I，计算得到待测定X射线反射膜的反射率。本发明用于测定X射线反射膜效率。
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公开(公告)号：CN115728042A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202211512248.7
申请日：2022-11-29
申请人： 中国科学院西安光学精密机械研究所
IPC分类号： G01M11/02
摘要： 本发明涉及X射线聚焦镜，具体涉及一种用于X射线聚焦镜的焦斑半能量宽度确定方法，解决了现有的焦斑半能量宽度确定方法精度低的技术问题。本发明提出了单圆环能量包围函数，通过对焦斑图像从焦斑中心点至探测器幅面边沿分割成的大小不等的同心圆形成的单个圆环包围范围内总光子数的测量、记录，绘制单圆环能量包围函数曲线，与标准能量包围函数互为补充，可精确确定X射线聚焦镜焦斑的边界位置，从而确定X射线聚焦镜焦斑100％的能量范围，通过能量包围函数曲线确定X射线聚焦镜焦斑50％的能量范围，进而确定半能量宽度。
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公开(公告)号：CN118794540A
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202410810564.5
申请日：2024-06-21
申请人： 中国科学院西安光学精密机械研究所
摘要： 本发明涉及X射线和可见光的复合观测系统及方法，具体涉及一种X射线和可见光共孔径光学系统及观测方法，解决了现有X射线与可见光的多波段复合观测系统空间坐标融合的技术难度较高，并且导致硬件资源浪费的技术问题。本发明包括次镜、分频聚焦器件、X射线探测器、可见光成像镜组和可见光成像器件，利用分频聚焦器件内部微孔反射聚焦X射线以及在宏观尺度上反射可见光，实现X射线和可见光的分光，从而有效实现X射线和可见光的共孔径、同视场探测成像，有效减少复合波段探测硬件资源的投入，并减少多波段成像系统空间坐标融合的技术难点。
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公开(公告)号：CN109683344B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN201910068152.8
申请日：2019-01-24
申请人： 中国科学院西安光学精密机械研究所
摘要： 为了满足聚焦镜垂直装调系统中对光源的需求，保证较高的装调精度，本发明提供一种用于X射线聚焦镜垂直装调系统的光源装置及其搭建方法。装置包括激光器、激光器调节架、光学平台、转台、第一位移调节架、第二位移调节架、中心五棱镜组、装调五棱镜组和参考五棱镜组；光学平台置于激光器上方；转台位于光学平台上方；第一位移调节架、第二位移调节架均固定在转台上，中心五棱镜组包括中心五棱镜和第一五棱镜调节架，第一五棱镜调节架固定设置在转台上；装调五棱镜组包括装调五棱镜和第二五棱镜调节架，第二五棱镜调节架设置在第一位移调节架上；参考五棱镜组包括参考五棱镜和第三五棱镜调节架，第三五棱镜调节架设置在第二位移调节架上。
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公开(公告)号：CN112652510B
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN202011490623.3
申请日：2020-12-16
申请人： 中国科学院西安光学精密机械研究所
IPC分类号： H01J31/12
摘要： 本发明提供一种大视场、低像差电子光学成像系统及成像方法，解决现有多束、大视场电子光学系统的像差性能无法满足要求的问题。该成像系统包括依次设置的电子源、加速电极阵列、单透镜和物镜；电子源用于发出多束电子，多束电子的电位从中心向外依次减小；加速电极阵列位于电子源下方，包括多个加速电极，用于对电子源出射的电子进行等能量加速；单透镜、物镜处于加速电极下方，将加速后的电子聚焦并以固定缩放比成像至靶面处。本发明系统中，出射的电子经加速电极加速后，外围电子因具有较大动能，从而能有效减少其在电子光学系统中的飞行时间，从而保证处于不同位置的电子受到空间电荷效应影响一致，保证大视场电子光学系统的低像差性能。
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