真空红外线加热退火炉
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102212658B

    公开(公告)日:2012-11-21

    申请号:CN201010139658.2

    申请日:2010-04-01

    IPC分类号: C21D1/26 C22F1/00

    摘要: 本发明提供一种真空红外线退火炉,包括样品架、红外线光源、绝热陶瓷环、样品托、测温装置以及真空腔;其中,样品架位于真空腔内,所述红外线光源位于所述样品架的底部,所述样品架的顶端有一开口,所述绝热陶瓷环安放在所述样品架顶端开口的四周;用于安放样品的样品托被安装在所述绝热陶瓷环上,使得所述样品托中的样品能够透过所述绝热陶瓷环以及所述样品架的顶端开口接收所述红外线光源散发出的热量;所述测温装置对所述样品在退火过程中的温度予以测量。本发明的真空红外线加热退火炉能够在磁场环境下使用,具有应用范围广的优点。

    真空红外线加热退火炉
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102212658A

    公开(公告)日:2011-10-12

    申请号:CN201010139658.2

    申请日:2010-04-01

    IPC分类号: C21D1/26 C22F1/00

    摘要: 本发明提供一种真空红外线退火炉,包括样品架、红外线光源、绝热陶瓷环、样品托、测温装置以及真空腔;其中,样品架位于真空腔内,所述红外线光源位于所述样品架的底部,所述样品架的顶端有一开口,所述绝热陶瓷环安放在所述样品架顶端开口的四周;用于安放样品的样品托被安装在所述绝热陶瓷环上,使得所述样品托中的样品能够透过所述绝热陶瓷环以及所述样品架的顶端开口接收所述红外线光源散发出的热量;所述测温装置对所述样品在退火过程中的温度予以测量。本发明的真空红外线加热退火炉能够在磁场环境下使用,具有应用范围广的优点。

    用于溅射设备中的多基片、多功能载片机构

    公开(公告)号:CN2183373Y

    公开(公告)日:1994-11-23

    申请号:CN94205131.9

    申请日:1994-03-25

    IPC分类号: C23C14/50

    摘要: 一种由档板①、基片装载转盘③组成的多基片、多功能载片机构,其特征在于:还包括下档板②、档板上、下位置调整装置④、定位销⑤、定位刻度指示⑥、二个步进马达⑦,一个步进马达⑦由一台微机控制,一个步进马达⑦与上档板①转轴真空动态密封连接;另一台步进马达⑦与基片装载转盘③的轴齿轮齿带连接,基片装载转盘③的转轴通过动密封装在真空的法兰盘上;下档板②转轴为空心,转轴穿过基片装载转盘③的轴,它们之间动态真空密封。