一种合成GaN纳米材料的方法

    公开(公告)号:CN1081165C

    公开(公告)日:2002-03-20

    申请号:CN98125641.4

    申请日:1998-12-23

    IPC分类号: C01G15/00

    摘要: 本发明涉及一种热液合成GaN纳米材料的方法。通过在高压釜中放入金属镓,适量的易分解的氨盐和一定充满度的液氨后,将釜密封置入加热炉中加热至350-500℃,恒温3-4天,将釜取出打开,即可获得极纯的单相GaN纳米材料。用本方法获得的GaN纳米材料的纯度高,从X-射线衍射谱线来看无任何其它物相的杂线,产率近100%。本发明设备简单,成本低廉、高效,便于工业化批量生产。

    一种合成GaN纳米材料的方法

    公开(公告)号:CN1257836A

    公开(公告)日:2000-06-28

    申请号:CN98125641.4

    申请日:1998-12-23

    IPC分类号: C01G15/00

    摘要: 本发明涉及一种热液合成GaN纳米材料的方法。通过在高压釜中放入金属镓,适量的易分解的氨盐和一定充满度的液氨后,将釜密封置入加热炉中加热至350—500℃,恒温3—4天,将釜取出打开,即可获得极纯的单相GaN纳米材料。用本方法获得的GaN纳米材料的纯度高,从X-射线衍射谱线来看无任何其它物相的杂线,产率近100%。本发明设备简单,成本低廉、高效,便于工业化批量生产。