公开(公告)号：CN106205744A

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201610539147.7

申请日：2016-07-11

Applicant: 中国科学院大学

Inventor： 王增辉 ,  李粲 ,  倪明玖

IPC: G21B1/13

CPC classification number: Y02E30/128 ,  G21B1/13

Abstract: 本发明公开了一种实现液态金属自由表面稳定流动的系统及方法，包括：平板基底，在所述平板基底上列阵布置槽道装置，所述槽道装置包括供上部液态金属流动的若干毛细槽道，所述槽道装置的固壁厚度适应于聚变堆中面向等离子体部件的任意位置。本发明的优点是：不仅可以增大液态金属与壁面的接触面积，使黏附力增大，而且毛细槽道结构会产生额外的表面张力，这就大大削减了润湿阻力和电磁力的作用，使液态金属自由表面流动更加稳定；且该结构既可实现面向等离子体部件液态金属的静止状态，也可实现液态金属的流动状态，处于静止状态可达到防止MHD效应影响的目的。

公开(公告)号：CN106205744B

公开(公告)日：2018-01-30

申请号：CN201610539147.7

申请日：2016-07-11

Applicant: 中国科学院大学

Inventor： 王增辉 ,  李粲 ,  倪明玖

IPC: G21B1/13

CPC classification number: Y02E30/128

Abstract: 本发明公开了一种实现液态金属自由表面稳定流动的系统及方法，包括：平板基底，在所述平板基底上列阵布置槽道装置，所述槽道装置包括供上部液态金属流动的若干毛细槽道，所述槽道装置的固壁厚度适应于聚变堆中面向等离子体部件的任意位置。本发明的优点是：不仅可以增大液态金属与壁面的接触面积，使黏附力增大，而且毛细槽道结构会产生额外的表面张力，这就大大削减了润湿阻力和电磁力的作用，使液态金属自由表面流动更加稳定；且该结构既可实现面向等离子体部件液态金属的静止状态，也可实现液态金属的流动状态，处于静止状态可达到防止MHD效应影响的目的。