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公开(公告)号：CN104678469B
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201510117057.4
申请日：2015-03-17
申请人： 中国科学院上海高等研究院
摘要： 本发明提供一种渐变折射率材料分布式布拉格反射镜及其制造方法，包括步骤：1)提供基底，在所述基底表面制备过渡层，所述过渡层下表面的折射率与所述基底的折射率匹配；过渡层的折射率分布可以是一致的、阶梯状的或渐变的；2)在所述过渡层表面制备由高折射率材料层和低折射率材料层交替重复的分布式布拉格反射镜(Distributed Bragg Reflector，DBR)，其中，所述高折射率材料层和/或低折射率材料层为渐变折射率材料层；DBR也可以是一套或多套叠加。本发明采用掠入射角镀膜工艺制备渐变折射率材料，并采用该材料形成DBR结构，这种DBR结构周期少、性能高，同时可以和不同基底有效集成，显著降低生产成本，提高器件的出光效率，促进DBR的应用。
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公开(公告)号：CN104678461A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201510116902.6
申请日：2015-03-17
申请人： 中国科学院上海高等研究院
摘要： 本发明提供一种渐变折射率材料制备方法，包括步骤：提供一基底，采用掠入射角镀膜或者化学腐蚀方式在所述基底表面镀渐变折射率层，所述渐变折射率层是以传统光学材料为基础，通过改变结构中材料与空隙的体积比，从而调节所述渐变折射率层的有效折射率。本发明采用掠入射角镀膜的方法制备渐变折射率材料并采用该材料形成新型高效光学结构。由于采用渐变折射率材料，新型的光学结构的光学性能更好，同时能够有效的和不同的衬底或基板集成，显著降低生产成本，提高该器件的光学性能，促进该光学结构的应用。
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公开(公告)号：CN104678461B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201510116902.6
申请日：2015-03-17
申请人： 中国科学院上海高等研究院
摘要： 本发明提供一种渐变折射率材料制备方法，包括步骤：提供一基底，采用掠入射角镀膜或者化学腐蚀方式在所述基底表面镀渐变折射率层，所述渐变折射率层是以传统光学材料为基础，通过改变结构中材料与空隙的体积比，从而调节所述渐变折射率层的有效折射率。本发明采用掠入射角镀膜的方法制备渐变折射率材料并采用该材料形成新型高效光学结构。由于采用渐变折射率材料，新型的光学结构的光学性能更好，同时能够有效的和不同的衬底或基板集成，显著降低生产成本，提高该器件的光学性能，促进该光学结构的应用。
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公开(公告)号：CN104678469A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201510117057.4
申请日：2015-03-17
申请人： 中国科学院上海高等研究院
CPC分类号： G02B5/0816 , G02B1/00 , G02B5/0883
摘要： 本发明提供一种渐变折射率材料分布式布拉格反射镜及其制造方法，包括步骤：1)提供基底，在所述基底表面制备过渡层，所述过渡层下表面的折射率与所述基底的折射率匹配；过渡层的折射率分布可以是一致的、阶梯状的或渐变的；2)在所述过渡层表面制备由高折射率材料层和低折射率材料层交替重复的分布式布拉格反射镜(Distributed Bragg Reflector，DBR)，其中，所述高折射率材料层和/或低折射率材料层为渐变折射率材料层；DBR也可以是一套或多套叠加。本发明采用掠入射角镀膜工艺制备渐变折射率材料，并采用该材料形成DBR结构，这种DBR结构周期少、性能高，同时可以和不同基底有效集成，显著降低生产成本，提高器件的出光效率，促进DBR的应用。
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