公开(公告)号：CN120015849A

公开(公告)日：2025-05-16

申请号：CN202510120542.0

申请日：2025-01-25

Applicant: 中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司 ,  浙江华东工程建设管理有限公司

Inventor： 周思思 ,  曾少军 ,  宗徐剑 ,  曹佳荣 ,  俞妙言 ,  彭逸萱 ,  裘露婷 ,  黄生霞 ,  陈浩境 ,  周潇 ,  徐启良 ,  胡小坚 ,  魏拥春 ,  刘雪雯 ,  巫星威 ,  吕昊哲

IPC: H01M4/88 ,  H01M8/1004

Abstract: 本发明涉及燃料电池技术领域，尤其涉及一种等离子体蚀刻结合旋转热压转印的膜电极制备方法、膜电极及其应用，包括以下步骤：对转印基材进行等离子体放电蚀刻处理；将石墨板、保护层、第一预处理转印基材、质子交换膜、第二预处理转印基材、保护层、石墨板依次层叠平铺进行旋转热压转印处理，得到热压后膜电极；其中，第一预处理转印基材为涂布有阳极催化剂层的蚀刻后转印基材，第二预处理转印基材为涂布有阴极催化剂层的蚀刻后转印基材；去除热压后膜电极上的第一预处理转印基材和第二预处理转印基材，贴上碳纸，封上边框，冲压成型，得到膜电极。本发明通过等离子体蚀刻和旋转热压转印协同作用，制备得到的膜电极具有较高的峰值功率密度。