一种水苔的高产栽培方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118303285A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202410472172.2

    申请日:2024-04-19

    Abstract: 本发明涉及水苔栽培技术领域,具体涉及一种水苔的高产栽培方法,包括以下步骤:开沟平厢:选择海拔在2000m以下,有水源保证的山区,水温8℃‑15℃,阴冷、潮湿的环境,土壤pH值为4.5‑6.5的酸性沙质冷烂锈水田;翻犁平整,人工去除杂草,然后进行犁耙,使土壤达到细、绒、平的要求;按宽度为1.2‑1.5m进行分厢,厢体四面的沟宽和沟深均为30cm;全生育期以黑色遮阳网全封闭式覆盖整个厢体:遮阳网采用4针加密,遮阳网骨架采用玻璃纤维,遮阳网铺设高度为距离箱体地面50cm。本发明方法简单、容易操作,能显著增加水苔单株的茎叶粗度、绒毛数量和成品长度,提高水苔产量30%以上,产品等级提高一级以上。

Patent Agency Ranking