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公开(公告)号:CN112845372B
公开(公告)日:2022-05-03
申请号:CN202011644590.3
申请日:2020-12-31
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种光学元件疵病的抑制设备及方法,该光学元件疵病的抑制设备包括:吹扫装置、吸附装置、第一吸盘和洁净容器,吸附装置、吹扫装置与第一吸盘均安装在洁净容器中;吹扫装置的出风口对向光学元件的待吹扫面;第一吸盘设置于洁净容器的底座上,第一吸盘与吸附机构相对设置;吸附装置用于吸附光学元件的吸附面,并通过升降机构驱动吸附机构将光学元件调整至吹扫高度;吹扫装置用于吹扫光学元件的待吹扫面;吸附装置用于将吹扫后的光学元件放置于第一吸盘上进行吸附,通过第一吸盘完成对光学元件的真空吸附装夹。因此能够解决光学元件在真空吸附装夹过程中,存在容易产生表面疵病的技术问题。
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公开(公告)号:CN110408070A
公开(公告)日:2019-11-05
申请号:CN201910703934.4
申请日:2019-07-31
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜及其制备方法。其制备方法为:(1)将甲基三甲氧基硅烷、水和乙醇混合,于100~150℃反应15~24h,得溶胶A;(2)将硅氧烷、氨水和乙醇混合,于80~120℃反应20~30h后,冷却至室温,并陈化3~5天,得溶胶B;(3)向溶胶A中加入为其质量百分比10~30%的溶胶B,混合均匀后,以1~2mm/min的速度提拉涂膜,得待固化薄膜;(4)于300~500℃烘烤步骤(3)制得的待固化薄膜20~30h即可。本发明制备得到的激光薄膜具有优异的耐刮擦性能与超高的基频透射率,并具有较高的基频损伤阈值。
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公开(公告)号:CN110308501A
公开(公告)日:2019-10-08
申请号:CN201910671089.7
申请日:2019-07-24
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B1/04 , G02B1/10 , C09D183/06 , C09D183/07
Abstract: 本发明公开了一种强激光薄膜及其制备方法、应用,属于强激光材料技术领域。本发明基于紫外固化的硅酮薄膜,通过控制紫外光引发剂的含量,在实现薄膜固化的同时对处于紫外波段的三倍频激光进行吸收,该薄膜可在基频与倍频处实现高透射,并且能降低三倍频处的透射率。本发明提供的薄膜在基频与倍频波长处具有高的透射率,两者可以同时高于99%。本发明提供的薄膜具有高的三倍频吸收截止能力,其透射率低于90%。
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公开(公告)号:CN110756910B
公开(公告)日:2025-01-28
申请号:CN201911225042.4
申请日:2019-12-03
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23D79/00
Abstract: 本申请涉及机械加工和光学加工领域,具体而言,涉及一种侧棱/侧边切削工装,包括底座、支撑件及紧固组件。支撑件固定在底座顶面,支撑件的至少两侧分别具有第一安装面和第二安装面,第一安装面与顶面的夹角为直角,第二安装面与顶面的夹角为钝角或锐角。紧固组件可拆卸地连接于第一安装面或者第二安装面,以将待切削元件固定在第一安装面或者第二安装面,并且使固定在第一安装面的待切削元件与底座顶面垂直,使固定在第二安装面的待切削元件与底座顶面呈锐角或钝角。该工装能够对安装在第一安装面上的待切削元件进行侧边切削,对安装在第二安装面上的待切削元件进行侧棱切削。在加工侧边和侧棱转换时,不需要重新调节工装角度,提高了加工效率。
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公开(公告)号:CN112845372A
公开(公告)日:2021-05-28
申请号:CN202011644590.3
申请日:2020-12-31
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种光学元件疵病的抑制设备及方法,该光学元件疵病的抑制设备包括:吹扫装置、吸附装置、第一吸盘和洁净容器,吸附装置、吹扫装置与第一吸盘均安装在洁净容器中;吹扫装置的出风口对向光学元件的待吹扫面;第一吸盘设置于洁净容器的底座上,第一吸盘与吸附机构相对设置;吸附装置用于吸附光学元件的吸附面,并通过升降机构驱动吸附机构将光学元件调整至吹扫高度;吹扫装置用于吹扫光学元件的待吹扫面;吸附装置用于将吹扫后的光学元件放置于第一吸盘上进行吸附,通过第一吸盘完成对光学元件的真空吸附装夹。因此能够解决光学元件在真空吸附装夹过程中,存在容易产生表面疵病的技术问题。
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公开(公告)号:CN110756910A
公开(公告)日:2020-02-07
申请号:CN201911225042.4
申请日:2019-12-03
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23D79/00
Abstract: 本申请涉及机械加工和光学加工领域,具体而言,涉及一种侧棱/侧边切削工装,包括底座、支撑件及紧固组件。支撑件固定在底座顶面,支撑件的至少两侧分别具有第一安装面和第二安装面,第一安装面与顶面的夹角为直角,第二安装面与顶面的夹角为钝角或锐角。紧固组件可拆卸地连接于第一安装面或者第二安装面,以将待切削元件固定在第一安装面或者第二安装面,并且使固定在第一安装面的待切削元件与底座顶面垂直,使固定在第二安装面的待切削元件与底座顶面呈锐角或钝角。该工装能够对安装在第一安装面上的待切削元件进行侧边切削,对安装在第二安装面上的待切削元件进行侧棱切削。在加工侧边和侧棱转换时,不需要重新调节工装角度,提高了加工效率。
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公开(公告)号:CN110308501B
公开(公告)日:2022-04-29
申请号:CN201910671089.7
申请日:2019-07-24
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B1/04 , G02B1/10 , C09D183/06 , C09D183/07
Abstract: 本发明公开了一种强激光薄膜及其制备方法、应用,属于强激光材料技术领域。本发明基于紫外固化的硅酮薄膜,通过控制紫外光引发剂的含量,在实现薄膜固化的同时对处于紫外波段的三倍频激光进行吸收,该薄膜可在基频与倍频处实现高透射,并且能降低三倍频处的透射率。本发明提供的薄膜在基频与倍频波长处具有高的透射率,两者可以同时高于99%。本发明提供的薄膜具有高的三倍频吸收截止能力,其透射率低于90%。
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公开(公告)号:CN110408070B
公开(公告)日:2022-03-01
申请号:CN201910703934.4
申请日:2019-07-31
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C08G77/06
Abstract: 本发明公开了一种高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜及其制备方法。其制备方法为:(1)将甲基三甲氧基硅烷、水和乙醇混合,于100~150℃反应15~24h,得溶胶A;(2)将硅氧烷、氨水和乙醇混合,于80~120℃反应20~30h后,冷却至室温,并陈化3~5天,得溶胶B;(3)向溶胶A中加入为其质量百分比10~30%的溶胶B,混合均匀后,以1~2mm/min的速度提拉涂膜,得待固化薄膜;(4)于300~500℃烘烤步骤(3)制得的待固化薄膜20~30h即可。本发明制备得到的激光薄膜具有优异的耐刮擦性能与超高的基频透射率,并具有较高的基频损伤阈值。
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公开(公告)号:CN111239860A
公开(公告)日:2020-06-05
申请号:CN202010118267.6
申请日:2020-02-26
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了用于高功率激光装置的三倍频增透膜及其制备方法和应用,制备方法包括以下步骤:将正硅酸乙酯、无水乙醇、水、碱性催化剂混合均匀,常温反应,再将该溶胶在40℃下回流;加入硅烷偶联剂,再加入酸性催化剂,在80-100℃下继续反应,然后加入引发剂,得到目标溶胶;将该溶胶涂覆于KDP晶体上,依次进行光辐照和烘烤后即得。采用本发明制备的三倍频增透膜,可大幅提升SiO2纳米颗粒间的结合力,有效增大膜层的机械强度和抗损伤能力,在高功率激光装置使用过程中增长膜层的使用寿命。
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公开(公告)号:CN113359610A
公开(公告)日:2021-09-07
申请号:CN202110749027.0
申请日:2021-07-01
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G05B19/4065
Abstract: 本申请公开了一种超精密单点金刚石飞切机床的状态监测方法、装置、系统及计算机可读存储介质。其中,方法包括预先训练用于建立机床状态信号与工件加工质量对应关系的机床状态识别模型;工件加工质量可用于反映机床运行状态是否平稳。获取超精密单点金刚石飞切机床的当前状态信号;根据当前状态信号和机床状态识别模型可以确定超精密单点金刚石飞切机床是否运行于平稳状态,从而可以通过监控超精密单点金刚石飞切机床的状态来确保超精密单点金刚石飞切机床平稳地运行,保证机床稳定的切削精度,有效提高机床的加工效率。
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