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公开(公告)号:CN110536597B
公开(公告)日:2020-10-27
申请号:CN201910788048.6
申请日:2019-08-26
Applicant: 中国工程物理研究院应用电子学研究所 , 华北电磁防护技术研究所(中国电子科技集团公司第三十三研究所)
Abstract: 本发明公开了一种新型透光电磁防护薄膜及其制备方法,新型透光电磁防护薄膜,制备于光学透明基底上,透光电磁防护薄膜由银纳米线涂布液制成,所述银纳米线涂布液按体积份包括银纳米线溶液100份,分散剂0.05‑0.5份,润湿剂0.05‑0.5份,粘结剂0.05‑0.5份;其制备方法包括:1、基底表面预处理;2、基底上制备银纳米线薄膜;3、银纳米线薄膜烘干制得新型透光电磁防护薄膜。采用本发明的一种新型透光电磁防护薄膜,兼具良好粘附性能和均匀性。
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公开(公告)号:CN110536597A
公开(公告)日:2019-12-03
申请号:CN201910788048.6
申请日:2019-08-26
Applicant: 中国工程物理研究院应用电子学研究所 , 华北电磁防护技术研究所(中国电子科技集团公司第三十三研究所)
Abstract: 本发明公开了一种新型透光电磁防护薄膜及其制备方法,新型透光电磁防护薄膜,制备于光学透明基底上,透光电磁防护薄膜由银纳米线涂布液制成,所述银纳米线涂布液按体积份包括银纳米线溶液100份,分散剂0.05-0.5份,润湿剂0.05-0.5份,粘结剂0.05-0.5份;其制备方法包括:1、基底表面预处理;2、基底上制备银纳米线薄膜;3、银纳米线薄膜烘干制得新型透光电磁防护薄膜。采用本发明的一种新型透光电磁防护薄膜,兼具良好粘附性能和均匀性。
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