公开(公告)号：CN109407252A

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201811516006.9

申请日：2018-12-12

Applicant: 中国工程物理研究院应用电子学研究所

Inventor： 卓红艳 ,  刘志强 ,  叶鹏 ,  彭文 ,  刘志辉 ,  葛成良 ,  付强 ,  李才阳

IPC: G02B7/00 ,  H05K9/00

Abstract: 本发明涉及一种高电磁屏蔽光窗及其制备方法，属于光电通信及电磁屏蔽技术领域，所述屏蔽光窗包括光学玻璃和金属网栅，所述光学玻璃设有2块，且金属网栅位于2块光学玻璃之间，所述金属网栅与光学玻璃相粘合，且金属网栅具有周期性结构，本发明将光学玻璃和金属网栅相结合制备屏蔽光窗，既具有高电磁屏蔽性能，又不影响光电设备光学镜头探测图像功能，有效解决了在强辐射、强电磁干扰环境下的光学系统镜头的电磁防护问题，在实际应用中效果较好，未出现画面图像闪烁、黑屏或光学系统被强电磁干扰损坏的情况。同时，可以根据屏蔽要求，选择金属网栅的线宽和目数，制备具有不同屏蔽效能的屏蔽光窗，具有较高的经济效益。