一种漆黄素及其盐在制备抗辐射损伤药物中的应用

    公开(公告)号:CN111700888A

    公开(公告)日:2020-09-25

    申请号:CN202010561607.2

    申请日:2020-06-18

    摘要: 本发明公开了一种漆黄素及其盐在制备抗辐射损伤药物中的应用,涉及医药技术领域,具体公开了漆黄素能够应用于X射线、γ射线等电离辐射引起的多种放射性器官损伤以及DNA损伤,同时能够应用于肿瘤放射治疗辅助药物。本发明提供的漆黄素及其盐广泛存在于自然界中,且对多种抗辐射损伤具有显著的预防及治疗效果,因此,本发明为漆黄素的应用提供了新的思路,为抗辐射损伤药物提供了新的原料,且将漆黄素应用于抗辐射损伤药物能够降低药物生产成本,便于市场推广,缓解患者的经济压力。