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公开(公告)号：CN114804011B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202210476300.1
申请日：2022-04-29
申请人： 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC分类号： B81C1/00
摘要： 本发明涉及一种聚合物微结构的超精密制造方法，步骤S1、采用金刚石铣削接触式工艺对聚合物表面进行加工，以实现对微结构的毫微级控形；步骤S2、对步骤S1得到的聚合物微结构采用激光束非接触式工艺，实现微米级调形；步骤S3、在步骤S2得到的聚合物外设置导电层，导电层具有使聚合物的微结构外露的镂空部，然后采用非接触式离子束加工，离子束直接对聚合物微结构进行纳米级精调。最终产品可以达到需要的精度要求及表面质量要求，并且加工效率较高。
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公开(公告)号：CN114564688A
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202210107456.2
申请日：2022-01-28
申请人： 中国兵器科学研究院宁波分院
摘要： 本发明涉及一种基于PB神经网络确定离子束抛光去除函数的方法，通过有限次的法拉第扫描和线扫描实验建立数据库，确定离子束电流密度和去除函数分布系数之间的关系，根据法拉第扫描结果，通过线性公式计算去除函数峰值去除率，通过BP神经网络预测去除函数分布系数。本方法得到的去除函数信息与通过实验方法得到的去除函数信息基本相同，却极大的缩短了确定去除函数的时间；同时基于法拉第扫描结果确定去除函数，无需在元件表面进行去除函数实验，从而节约了成本；且本发明通过线性公式和BP神经网络来确定去除函数的分布信息，这种方法对于所有可用于离子束加工的材料均适用，不受材料特性的限制，可用于所有的离子束加工过程。
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公开(公告)号：CN113430523A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202110697107.6
申请日：2021-06-23
申请人： 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC分类号： C23F4/00 , C23F3/02 , B08B3/12 , B24B27/033 , B24B29/02
摘要： 本发明公开了一种光学用铝合金表面多维可控反应能束复合抛光方法，其特征在于包括有以下步骤：(1)小磨头数控研抛：采用铝合金小磨头数控研抛方法，制备获得光学级铝合金材料样品；(2)化学预抛光：采用碱性抛光液对样品进行化学预抛光，在样品的表面形成氧化层；(3)超声前处理：在超净室采用去离子水对样品进行超声波清洗；(4)离子束刻蚀：(5)表面质量检测：检测样品表面是否满足指标要求，若不满足，重新进行离子束刻蚀，直到得到满足指标要求的铝合金材料。与现有技术相比，本发明的方法能够在铝合金表面获得光学用超光滑表面。
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公开(公告)号：CN107858667B
公开(公告)日：2021-04-13
申请号：CN201711276641.X
申请日：2017-12-06
申请人： 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC分类号： C23C16/513 , C23C16/27
摘要： 一种小型椭球式等离子反应腔及其设计方法，包括腔体、设置在腔体内的沉积室以及同轴天线，腔体为下部切边的椭球状金属腔体，椭球状金属腔体的长轴直径Z＝430～440mm，短轴半径R＝160～170mm，沉积室是由沉积基台与石英钟罩组成，其中沉积基台与椭球体短轴平行，密封设置在腔体的下部切边位置，石英钟罩同轴罩盖在沉积基台上方，同轴天线采用圆柱状铜材料，设置于腔体的上端缺口处，等离子反应腔内的微波耦合方式为天线耦合，微波谐振模式为TM033。使用本发明的等离子反应腔的微波等离子体CVD装置与传统的“TM036”式装置有着相同的微波聚焦能力，但体积是传统“TM036”椭球式装置体积的一半，具有结构合理紧凑、成本低、加工难度低的优点，具有较好的应用前景。
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公开(公告)号：CN109571110B
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：CN201811360435.1
申请日：2018-11-15
申请人： 中国兵器科学研究院宁波分院
摘要： 一种用于活塞销孔加工的压电陶瓷配合杠杆机构的微进给装置，包括基座、刀柄、镗刀以及进刀压电陶瓷驱动器和退刀压电陶瓷驱动器，刀柄一端插置在基座内，另一端与镗刀固定连接，杠杆轴前后穿过基座、刀柄将刀柄与基座连接在一起、并使刀柄可沿杠杆轴旋转，进刀压电陶瓷驱动器和退刀压电陶瓷驱动器分别通过预紧螺钉可调节地穿置在基座的上下两侧，进刀压电陶瓷驱动器和退刀压电陶瓷驱动器与杠杆轴垂直设置且里端分别与刀柄靠近尾部的上下两侧相抵，进刀或退倒时，进刀压电陶瓷驱动器和退刀压电陶瓷驱动器的变形位移通过杠杆轴转变为刀具的径向位移。本发明结构简单、易于加工制造，具有高精度、高分辨率和快速响应的特点。
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公开(公告)号：CN111885807A
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN202010672938.3
申请日：2020-07-14
申请人： 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC分类号： H05H1/00
摘要： 本发明涉及一种表征射频离子源离子束特性的测量方法，所述方法包括S1、真空腔室内固定硅片并将稳定后的离子束垂直投射于硅片上即α＝0；S2、调整离子束引出端面与硅片之间的距离WD以调整形成于硅片上的束斑，并据此束斑分析离子束形态为聚焦离子束或平行离子束；S3、获取离子束投射于硅片上形成的束斑面形PV值，利用MetroPro软件分析计算束斑直径；S4、测量束斑的长半轴a和短半轴b，并据二者比值a/b大小确定束斑形状为圆形光斑或椭圆形光斑。本发明能够直观反应离子束形态、束径大小以及束斑形状，便于准确分析离子束特性，对后期工艺实验提供了指导依据。
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公开(公告)号：CN110216548A
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201910444411.2
申请日：2019-05-27
申请人： 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC分类号： B24B13/00 , B24B13/005 , B24B1/00 , B24B41/00
摘要： 一种用于离子束加工的多品种大口径光学元件复合装置，包括基体、用于输送光学元件的输送夹紧装置以及提升定位装置，其中提升定位装置可上下移动地设置在基体上，基体的底部左右两侧设有滑轨，输送夹紧装置可前后滑动地设置在滑轨上，滑轨上设有用于定位输送夹紧装置的定位块，基体上设有定位套，输送夹紧装置的上端设有对应的定位销，当输送夹紧装置沿滑轨移动到定位块时，输送夹紧装置正好位于提升定位装置的正下方，输送夹紧装置通过提升定位装置的提升向上移动与基体定位。本发明结构简单合理紧凑，不仅可实现多品种光学元件的装夹，且定位精确，同时方便与外部运输装置对接。
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公开(公告)号：CN109605168A
公开(公告)日：2019-04-12
申请号：CN201811451945.X
申请日：2018-11-30
申请人： 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC分类号： B24B13/00 , B24B13/005 , B24B1/04 , B24B55/06 , B24B49/12
摘要： 本发明提供一种大直径光学元件的加工系统，包括工作台、设于所述工作台主轴上的光学元件、用于对光学元件进行定位和检测表面粗糙度的定位及检测系统、用于对光学元件进行加工的旋转超声振动系统、控制系统、以及蠕动泵和冷却装置；旋转超声振动系统包括超声波发生器、驱动电机、旋转装置、超声波加工装置；超声波加工装置以一定的静压力压在光学元件上方并能相对于光学元件高速旋转，超声波加工装置和光学元件表面通过蠕动泵缓慢注入清洗液，用以加工过程中的清洗及冷却。相对于现有技术，本发明的加工系统能有效降低光学元件表面粗糙度，提高加工精度及表面光洁度，进而提高产品质量及生产效率。
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公开(公告)号：CN107858667A
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201711276641.X
申请日：2017-12-06
申请人： 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC分类号： C23C16/513 , C23C16/27
CPC分类号： C23C16/513 , C23C16/276
摘要： 一种小型椭球式等离子反应腔及其设计方法，包括腔体、设置在腔体内的沉积室以及同轴天线，腔体为下部切边的椭球状金属腔体，椭球状金属腔体的长轴直径Z＝430～440mm，短轴半径R＝160～170mm，沉积室是由沉积基台与石英钟罩组成，其中沉积基台与椭球体短轴平行，密封设置在腔体的下部切边位置，石英钟罩同轴罩盖在沉积基台上方，同轴天线采用圆柱状铜材料，设置于腔体的上端缺口处，等离子反应腔内的微波耦合方式为天线耦合，微波谐振模式为TM033。使用本发明的等离子反应腔的微波等离子体CVD装置与传统的“TM036”式装置有着相同的微波聚焦能力，但体积是传统“TM036”椭球式装置体积的一半，具有结构合理紧凑、成本低、加工难度低的优点，具有较好的应用前景。
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公开(公告)号：CN106501279A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201611097780.1
申请日：2016-12-02
申请人： 中国兵器科学研究院宁波分院
摘要： 本发明涉及一种硬脆光学材料的低亚表面损伤检测方法，该方法通过测试仪器准备、样品表面损伤的检测来获得待测样品的布儒斯特角，并进一步利用该布儒斯特角表征样品的表界面粗糙度。其中，测试仪器包括刻度盘、载物台、激光器、第一偏振片、光强度计及第二偏振片，结构简单、成本低，利用线偏振光准确地测出了入射到样品上的光线的布儒斯特角大小，并以此表征样品的表界面粗糙度，可将测量偏差保持在1/100以内，检测结果准确率高，且检测方法简单、快速，对待检测样品的表面无损伤；同时，本发明的方法还可以用于测量光学元件其他的微表面结构，并能达到纳米量级的表面微结构的检测，为制备出高质量的高损伤阈值薄膜提供了条件。
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