一种管式PECVD设备的腔室结构
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112853325A

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN202110028055.3

    申请日:2021-01-11

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 本发明公开一种管式PECVD设备的腔室结构,包括石英炉管,前端法兰组件,尾端法兰组件和补气装置;石英炉管的两端分别与前端法兰组件和后端法兰组件固接;石英炉管内设置有石墨舟;前端固定法兰套接在石英炉管一端外壁;前端进气法兰为环状设置;前端进气法兰内开设有环形腔;前端进气法兰内壁周向等距开设有若干布气孔;布气孔与环形腔连通;前端进气法兰外壁底部连通有进气管;远离进气管的布气孔孔径逐渐增大;石英炉管另一端连通有补气装置;能够实现工艺气体可以快速且均匀的分布在石英炉管内,气流在管内分布的均匀性以及沉积膜的均匀性大幅度的提高。

    一种用于制备大尺寸C/C复合材料的CVD沉积炉装置

    公开(公告)号:CN113265646A

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN202110665848.6

    申请日:2021-06-16

    Applicant: 中南大学

    Inventor: 周继承 梁慧玲

    Abstract: 本发明公开一种用于制备大尺寸C/C复合材料的CVD沉积炉装置,包括炉体,炉体内部固定设置有分流板,分流板将炉体内部分为混气室和沉积室,沉积室设置在混气室上方;进气组件包括进气嘴,进气嘴包括固定板以及固定设置在固定板一侧的若干组螺旋片,相邻两组螺旋片之间设置有螺旋通道,固定板的中部开设有进气口,进气口连接有进气管,进气口与螺旋通道连通。本发明通过螺旋状结构的进气嘴对工艺气体进行气体扰动,提高扩散到混气室工艺气体的均匀性,提高后期扩散到沉积室的均匀性。

    一种用于制备大尺寸C/C复合材料的CVD沉积炉装置

    公开(公告)号:CN215209616U

    公开(公告)日:2021-12-17

    申请号:CN202121336868.0

    申请日:2021-06-16

    Applicant: 中南大学

    Inventor: 周继承 梁慧玲

    Abstract: 本实用新型公开一种用于制备大尺寸C/C复合材料的CVD沉积炉装置,包括炉体,炉体内部固定设置有分流板,分流板将炉体内部分为混气室和沉积室,沉积室设置在混气室上方;进气组件包括进气嘴,进气嘴包括固定板以及固定设置在固定板一侧的若干组螺旋片,相邻两组螺旋片之间设置有螺旋通道,固定板的中部开设有进气口,进气口连接有进气管,进气口与螺旋通道连通。本实用新型通过螺旋状结构的进气嘴对工艺气体进行气体扰动,提高扩散到混气室工艺气体的均匀性,提高后期扩散到沉积室的均匀性。

    一种管式PECVD设备的腔室结构

    公开(公告)号:CN214327881U

    公开(公告)日:2021-10-01

    申请号:CN202120052323.0

    申请日:2021-01-11

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 本实用新型公开一种管式PECVD设备的腔室结构,包括石英炉管,前端法兰组件,尾端法兰组件和补气装置;石英炉管的两端分别与前端法兰组件和后端法兰组件固接;石英炉管内设置有石墨舟;前端固定法兰套接在石英炉管一端外壁;前端进气法兰为环状设置;前端进气法兰内开设有环形腔;前端进气法兰内壁周向等距开设有若干布气孔;布气孔与环形腔连通;前端进气法兰外壁底部连通有进气管;远离进气管的布气孔孔径逐渐增大;石英炉管另一端连通有补气装置;能够实现工艺气体可以快速且均匀的分布在石英炉管内,气流在管内分布的均匀性以及沉积膜的均匀性大幅度的提高。

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