公开(公告)号：CN108456885B

公开(公告)日：2022-08-23

申请号：CN201810149885.X

申请日：2018-02-13

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 李相赫 ,  申贤哲 ,  金奎怖 ,  李秉雄

IPC: C23F1/18 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明涉及一种蚀刻液组合物以及利用其的金属布线形成方法，更详细而言，涉及在金属布线的制备工艺中通过以预定图案蚀刻金属膜而用于金属布线形成的蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物包含过硫酸盐、含氟化合物、4氮杂环化合物、2氯化物以及水，其中所述4氮杂环化合物与2氯化物的含量比为1:1.4至1:2。

公开(公告)号：CN108456885A

公开(公告)日：2018-08-28

申请号：CN201810149885.X

申请日：2018-02-13

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 李相赫 ,  申贤哲 ,  金奎怖 ,  李秉雄

IPC: C23F1/18 ,  H01L21/306

CPC classification number: C23F1/18 ,  H01L21/30604

Abstract: 本发明涉及一种蚀刻液组合物以及利用其的金属布线形成方法，更详细而言，涉及在金属布线的制备工艺中通过以预定图案蚀刻金属膜而用于金属布线形成的蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物包含过硫酸盐、含氟化合物、4氮杂环化合物、2氯化物以及水，其中所述4氮杂环化合物与2氯化物的含量比为1:1.4至1:2。